特許
J-GLOBAL ID:200903067931070552

非晶質炭素被膜と非晶質炭素被膜の製造方法および非晶質炭素被膜の被覆部材

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 川瀬 茂樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-216724
公開番号(公開出願番号):特開2003-027214
出願日: 2001年07月17日
公開日(公表日): 2003年01月29日
要約:
【要約】【課題】 潤滑油中で低摩擦係数をもち、高い密着性を持ち、高硬度、平滑性、摺動特性などの特性を有する非晶質炭素被膜を提供すること。【解決手段】 基材の上に、0.5nm〜30nmの金属層を設けるか、或いは金属層を設けず基板の上に、0.5nm〜300nmの無水素炭素膜Aをスパッタリング、真空アーク蒸着法によって形成し、さらにその上に水素濃度が5〜50at.%、金属濃度が0.01〜35at.%の含水素炭素膜Bを無水素炭素膜Aの2倍〜1000倍の膜厚に形成する。
請求項(抜粋):
基材Sの上に形成した膜厚0.5nm〜300nmの無水素炭素膜Aと、5at.%〜50at.%の水素と0.01at.%〜35at.%の摩擦係数低減用金属元素を含み膜厚が無水素炭素膜Aの2倍〜1000倍であり無水素炭素膜Aの上に形成された含水素炭素膜Bよりなることを特徴とする非晶質炭素被膜。
IPC (3件):
C23C 14/06 ,  C01B 31/02 101 ,  C23C 16/27
FI (5件):
C23C 14/06 F ,  C23C 14/06 N ,  C23C 14/06 P ,  C01B 31/02 101 Z ,  C23C 16/27
Fターム (29件):
4G046CA02 ,  4G046CB03 ,  4G046CB08 ,  4G046CC06 ,  4K029BA01 ,  4K029BA03 ,  4K029BA06 ,  4K029BA07 ,  4K029BA08 ,  4K029BA09 ,  4K029BA11 ,  4K029BA12 ,  4K029BA13 ,  4K029BA16 ,  4K029BA17 ,  4K029BA34 ,  4K029BA55 ,  4K029BB02 ,  4K029BB10 ,  4K029BD04 ,  4K029BD05 ,  4K029CA03 ,  4K029CA05 ,  4K029EA01 ,  4K030BA28 ,  4K030BB05 ,  4K030JA01 ,  4K030LA22 ,  4K030LA23
引用特許:
審査官引用 (10件)
全件表示
引用文献:
前のページに戻る