特許
J-GLOBAL ID：200903068107313892

X線照射装置における飛散物除去方法及び装置

発明者：
屋代 英彦

屋代 英彦 について


出願人/特許権者：
独立行政法人産業技術総合研究所

独立行政法人産業技術総合研究所 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-327783
公開番号（公開出願番号）：特開2003-133100
出願日： 2001年10月25日
公開日（公表日）： 2003年05月09日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 プラズマX線源における高速飛散物の除去方法に、X線吸収率の低いガス又はフィルターを配置する方法がある。この方法は、飛散物を除去できるが、X線も吸収する。飛散物除去のためには、衝突媒質は長く、高密度状態が要求されるが、X線の吸収も大きくなり、X線強度も低下する。本願発明の目的は、X線の強度を損なわずに飛散物を除去することにある。【解決手段】 レーザー生成プラズマ、ピンチプラズマ又は細管に閉じ込められた放電プラズマからの飛散物は、レーザー生成プラズマを飛散物の被衝突物質として選ぶことにより、有効に除去ができる。両者は、プラズマにより生成される飛散物のため、同程度の速度であり、飛散物除去用のレーザー生成プラズマが高速シャッターとして機能する。また、X線パルス幅は非常に短く、X線速度は飛散物より圧倒的に速いため、X線は、上記高速シャッターの動作前に完全に透過し、減衰は全くない。
請求項（抜粋）：
X線照射装置における飛散物除去方法において、X線の発生と共に発生する高速飛散物を、飛散物除去用プラズマと衝突させることにより、該X線の強度を損なうことなく、該X線と該飛散物との軌道を分離することを特徴とするX線照射装置における飛散物除去方法。
IPC (8件)：
H05G 2/00 ,  G01N 23/227 ,  G21K 1/00 ,  G21K 5/00 ,  G21K 5/02 ,  G21K 5/08 ,  H01L 21/027 ,  H05G 1/00
FI (9件)：
G01N 23/227 ,  G21K 1/00 X ,  G21K 5/00 A ,  G21K 5/02 X ,  G21K 5/08 X ,  H05G 1/00 K ,  H05G 1/00 R ,  H01L 21/30 531 S ,  H01L 21/30 503 G
Fターム (15件)：
2G001AA01 ,  2G001AA07 ,  2G001BA08 ,  2G001CA03 ,  2G001FA12 ,  2G001GA01 ,  2G001JA11 ,  2G001KA01 ,  4C092AA06 ,  4C092AA13 ,  4C092AB21 ,  4C092AC09 ,  4C092AC20 ,  5F046GA20 ,  5F046GC03
引用特許：
出願人引用 (5件)
  • X線発生装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-127600   出願人：株式会社ニコン
  • X線発生装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-059644   出願人：株式会社ニコン
  • 特開昭62-268048
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審査官引用 (5件)
  • X線発生装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-127600   出願人：株式会社ニコン
  • X線発生装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-059644   出願人：株式会社ニコン
  • 特開昭62-268048
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