シリコンウエーハの保管用水及び保管する方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：好宮幹夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-367049
公開番号（公開出願番号）：特開平11-191543
出願日： 1997年12月25日
公開日（公表日）： 1999年07月13日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】シリコンウエーハを水中で保管する場合に、シリコンウエーハの保管用水からのCu汚染に起因した酸化膜耐圧不良を防止する。【解決手段】シリコンウエーハを水中で保管する場合に使用される保管用水であって、Cu濃度が0.01ppb 以下であることを特徴とする、シリコンウエーハの保管用水と、シリコンウエーハを水中で保管する方法において、Cu濃度が0.01ppb 以下の保管用水を使用することを特徴とする、シリコンウエーハを水中で保管する方法。

請求項（抜粋）：