特許
J-GLOBAL ID：200903068455610930

欠陥検査装置および欠陥検査方法

発明者：
宇都 幸雄

宇都 幸雄 について

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野口 稔

野口 稔 について

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西山 英利

西山 英利 について

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大島 良正

大島 良正 について

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浜松 玲

浜松 玲 について

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神宮 孝広

神宮 孝広 について

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中田 俊彦

中田 俊彦 について

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渡辺 正浩

渡辺 正浩 について


出願人/特許権者：
株式会社日立製作所

株式会社日立製作所 について

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日立電子エンジニアリング株式会社

日立電子エンジニアリング株式会社 について


代理人 (2件)： 小川 勝男 ,  田中 恭助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-344327
公開番号（公開出願番号）：特開2004-177284
出願日： 2002年11月27日
公開日（公表日）： 2004年06月24日
要約：
【課題】表面に透明薄膜が形成されたウェハ等の被検査対象基板はもとより、回路パターンを有するウェハ等の被検査対象基板に対して、0.1μmレベルの微小な異物やキズ等の欠陥を、高感度で、しかも高速に検査できるようにした欠陥検査装置およびその方法を提供することにある。【解決手段】照明光束を被検査対象基板1の表面に対して所定の傾斜角度で照射する照明光学系10と、前記被検査対象基板1から上方へ出射する上方反射散乱光を検出する上方検出光学系20及び前記被検査対象基板1から前記照明光束に対して平面的に交差する方向で傾斜した方向に出射する側方反射散乱光を検出する側方検出光学系600を備えた検出光学系200とを備えた欠陥検査装置である。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
被検査対象基板を載置して所定方向に走行する走査ステージと、 照明光束を被検査対象基板の表面に対して所定の傾斜角度で照射する照明光学系と、 前記被検査対象基板から上方へ出射する上方反射散乱光を集光する対物レンズと該対物レンズで集光された上方反射散乱光を結像させる上方用結像光学系と該上方用結像光学系で結像された上方反射散乱光像を受光して上方用画像信号に変換する上方用光検出器とを有する上方検出光学系及び前記被検査対象基板から前記照明光束に対して平面的に交差する方向で傾斜した方向に出射する側方反射散乱光を集光して結像させる側方用結像光学系と該側方用結像光学系で結像した側方反射散乱光像を受光して側方用画像信号に変換する側方用光検出器とを有する側方検出光学系を備えた検出光学系と、 該検出光学系の上方用光検出器から得られる上方用画像信号を上方用デジタル画像信号に変換し、前記側方用光検出器から得られる側方用画像信号を側方用デジタル画像信号に変換するA/D変換器と、該A/D変換器で変換された各デジタル画像信号に基づいて欠陥を検出する信号処理系とを備えたことを特徴とする欠陥検査装置。
IPC (1件)：
G01N21/956
FI (1件)：
G01N21/956 A
Fターム (17件)：
2G051AA51 ,  2G051AA56 ,  2G051AB02 ,  2G051BB01 ,  2G051CA02 ,  2G051CA03 ,  2G051CA07 ,  2G051CB05 ,  2G051CC07 ,  2G051CC17 ,  2G051EA11 ,  2G051EA12 ,  2G051EA16 ,  2G051EA25 ,  2G051EB01 ,  2G051EC02 ,  2G051ED21
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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