特許
J-GLOBAL ID：200903068525968919

ミニ・定流量サンプリング装置

発明者：
柳原 茂

柳原 茂 について


出願人/特許権者：
株式会社司測研

株式会社司測研 について


代理人 (1件)： 川井 治男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-269604
公開番号（公開出願番号）：特開2003-075308
出願日： 2001年09月06日
公開日（公表日）： 2003年03月12日
要約：
【要約】【課題】排気ガスの一部を流量に比例してサンプリングし、清浄な希釈ガスで希釈・混合して一定流量にするとき、圧力変化幅を小さくして排気サンプル流量の大きな変化に対応できること。【解決手段】自動車2の排気ガスの測定において本発明では全排気ガス流量を例えば可変断面積排気ガス流量計4で検出し、これに比例した流量を可変断面積オリフィスまたはベンチュリ113で測定・制御するとともに排気ガスサンプル流と希釈ガスを対向して流出させて混合し、逆な流量特性の制御により一定の圧力の範囲で排気ガスサンプル流量を広い範囲で測定・制御できるようにした定流量サンプリング装置である。
請求項（抜粋）：
内燃エンジンまたは内燃エンジンを搭載した自動車の排気ガスの汚染成分排出量を測定する装置において、排気ガスの凝縮を防止するために排気ガスを希釈するとともに一定の流量の希釈排気ガスとして汚染成分排出量が当該希釈排気ガスの当該成分濃度に比例するように構成した定流量サンプリング(CVS)装置であって、排気管出口の下流に装着した排気流量計で排気ガス流量を連続的に測定する一方で当該流量計の直後または直前から排気ガスの一部を例えば全流量の1/50〜1/500の範囲内で一定比率に制御して分流して排気ガスサンプル流とし、排気ガスサンプル流路に流量を測定し制御する可変断面積のオリフィスまたは可変断面積ベンチュリ式流量測定・制御装置を配置して、常に排気ガス全流量の指定された一定比率の排気ガスサンプル流について清浄な乾燥空気または窒素ガスと混合して露点以上の希釈排気ガス流とし、当該希釈排気ガス流量を常に一定流量に保つことによりその希釈排気ガス中の汚染成分濃度が常に当該成分の排出量に比例するように構成し、希釈に用いる清浄な空気または窒素ガスの流れを排気ガスサンプル流と対向させて混合し効果的に混合を促進するだけでなく、希釈に用いる清浄な空気または窒素ガスが一定圧に制御されて流出・混合するときに混合後の希釈排気ガスの圧力がほぼ一定な条件で排気ガスサンプル流量の増減に対応して希釈ガス流量が逆に減増しやすくなるように構成して、さらに希釈排気ガスを指定した一定温度に保つことにより流路に装備したCFV(臨界流ベンチュリ)で下流側の圧力変動に関わらず一定流量に制御し、その下流に脈動が少なく汚染の全く無い容積型ポンプを配置して吸引する小流量の定流量サンプリング装置(ミニ・定流量サンプリング装置)を構成し、当該希釈排気ガスの一部を適切な一定流量に制御して試料ガスとして必要な時間について適切なバッグに補集してその試料ガスを分析して汚染成分の排出量測定に供する一方で、必要に応じて当該希釈排気ガスを連続ガス分析してその各成分の瞬間的な排出値が測定できるようにした、排気ガスを全流量の一定比率で分流し、分流排気ガス試料を清浄な乾燥空気または窒素ガスで希釈し、環境空気の汚染の影響を全く受けないで汚染成分の排出量の測定に必要な一定流量の希釈排気ガスを容易に正確に得ることができる小型で合理的なミニ・定流量サンプリング装置。
Fターム (15件)：
2G052AA02 ,  2G052AB07 ,  2G052AB08 ,  2G052AC20 ,  2G052AD02 ,  2G052AD22 ,  2G052AD42 ,  2G052BA14 ,  2G052CA04 ,  2G052CA12 ,  2G052CA38 ,  2G052HA15 ,  2G052HC25 ,  2G052HC28 ,  2G052JA01
引用特許：
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM