プロキシミティ方式の露光方法とそれに用いられるマスク基板、および該マスク基板の作製方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：金山聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-018383
公開番号（公開出願番号）：特開2007-199434
出願日： 2006年01月27日
公開日（公表日）： 2007年08月09日
要約：

【課題】第1には、プロキシミティ露光方式の露光装置にて、マスクホルダー(マスクステージとも言う)自体を傾ける等のマスク基板の撓み調整手段を用いなくとも、マスクの自重による撓みの影響を少なくすることができる露光方式を提供する。【解決手段】マスクホルダーに保持されたマスク基板の自重に起因する撓みに対応して、マスク基板、ワーク間のギャップのバラツキを少なくするように、マスク基板の基材に表面加工を施して、マスク基板の基材の厚み方向の形状を制御している。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

マスク基板を露光されるワークの上側としてその外周においてマスクホルダーにて保持し、且つ、該マスク基板と該ワークとを対向させて、露光を行うプロキシミティ方式の露光方法であって、マスクホルダーに保持されたマスク基板の自重に起因する撓みに対応して、マスク基板、ワーク間のギャップのバラツキを少なくするように、マスク基板の基材に表面加工を施して、マスク基板の基材の厚み方向の形状を制御していることを特徴とするプロキシミティ方式の露光方法。

IPC (2件)：

G03F 7/20 , G03F 1/14

FI (2件)：

G03F7/20 501 , G03F1/14 A

Fターム (6件)：

2H095BA03 , 2H095BC28 , 2H097GA45 , 2H097JA02 , 2H097LA11 , 2H097LA12

引用特許：

出願人引用 (2件)

大サイズ基板用露光装置および露光方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-303389 出願人：大日本印刷株式会社
制電性フイルム
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-305718 出願人：帝人株式会社

審査官引用 (5件)

マスク及びその加工方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-000224 出願人：日本精工株式会社
特開平4-136853
マスク基板の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-261198 出願人：株式会社東芝

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