フォトマスクの製造方法

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出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：石川泰男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-014723
公開番号（公開出願番号）：特開2003-287877
出願日： 2003年01月23日
公開日（公表日）： 2003年10月10日
要約：

【要約】【課題】異物付着がなく高品質のレジストパターンフォトマスクを提供することができるフォトマスクの製造方法を提供することを課題とする。【解決手段】基板(1)上に直接レジスト(3)を塗布し、これをパターニングしてレジストパターンのフォトマスクを作製する方法であって、基板にレジスト塗布(2)し、露光描画(4)、現像処理(6)を行って、レジストパターン(7)を形成した後、検査工程(10,12)前にペリクル(8)装着を行うことを特徴とするフォトマスクの製造方法。

請求項（抜粋）：

基板上に直接レジストを塗布し、これをパターニングしてレジストパターンのフォトマスクを作製する方法であって、基板にレジスト塗布し、露光描画、現像処理を行って、レジストパターンを形成した後、検査工程前にペリクル装着を行うことを特徴とするフォトマスクの製造方法。

IPC (3件)：

G03F 1/08 , G03F 1/14 , H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 1/08 Z , G03F 1/08 S , G03F 1/14 J , H01L 21/30 502 P

Fターム (7件)：

2H095BB00 , 2H095BB19 , 2H095BB28 , 2H095BB30 , 2H095BB35 , 2H095BC39 , 2H095BD02

引用特許：

出願人引用 (1件)

レチクルおよびレチクル製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-092517 出願人：松下電器産業株式会社

審査官引用 (6件)

レチクルおよびレチクル製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-092517 出願人：松下電器産業株式会社
異物検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-004923 出願人：株式会社日立製作所
基板洗浄装置及び基板洗浄方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-288045 出願人：株式会社ニコン

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