特許
J-GLOBAL ID:200903068842970902

酸化物焼結体、その製造方法、酸化物透明導電膜の製造方法、および酸化物透明導電膜

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-070322
公開番号(公開出願番号):特開2007-246318
出願日: 2006年03月15日
公開日(公表日): 2007年09月27日
要約:
【課題】電子ビーム蒸着法、イオンプレーティング法、高密度プラズマアシスト蒸着法などの真空蒸着法により酸化物透明導電膜を製造する際に、多量のエネルギーを投入しても、割れやクラックが発生することのない酸化物焼結体を提供する。【解決手段】モリブデンを固溶したインジウム酸化物を含有し、モリブデンがインジウムに対する原子数比で0.001以上0.060以下含まれ、密度が3.7g/cm3以上6.5g/cm3以下であり、金属相と酸化モリブデンの結晶相を含まない酸化物焼結体とする。【選択図】 なし。
請求項(抜粋):
モリブデンを固溶したインジウム酸化物を含み、モリブデンの量がインジウムに対する原子数比(Mo/In)で0.001〜0.060であり、密度が3.7〜6.5g/cm3のものであることを特徴とする酸化物焼結体。
IPC (4件):
C04B 35/00 ,  H01B 5/14 ,  H01B 13/00 ,  C23C 14/08
FI (4件):
C04B35/00 J ,  H01B5/14 A ,  H01B13/00 503B ,  C23C14/08 K
Fターム (27件):
4G030AA23 ,  4G030AA32 ,  4G030AA34 ,  4G030BA02 ,  4G030BA15 ,  4G030GA22 ,  4G030GA26 ,  4G030GA27 ,  4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BA45 ,  4K029BA50 ,  4K029BC09 ,  4K029CA00 ,  4K029CA02 ,  4K029CA03 ,  4K029DB05 ,  4K029DB08 ,  4K029DB21 ,  4K029EA08 ,  4K029GA01 ,  5G307FA01 ,  5G307FB01 ,  5G307FC03 ,  5G323BA02 ,  5G323BB04 ,  5G323BC01
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (1件)
引用文献:
審査官引用 (2件)

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