特許

J-GLOBAL ID：200903068886960670

制御装置、温度調節器および熱処理装置

発明者： 南野 郁夫 ,  安藤 功策 ,  成松 聖也 ,  田中 政仁
出願人/特許権者： オムロン株式会社
代理人 (1件)： 岡田 和秀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-353321
公開番号（公開出願番号）：特開2002-157001
出願日： 2000年11月20日
公開日（公表日）： 2002年05月31日
要約：

【要約】【課題】干渉のある制御対象としての処理手段の制御において、干渉を低減するとともに、前記処理手段で処理される被処理物の温度を所望の温度に制御できるようにする。【解決手段】 処理手段3の温度を検出する複数の温度センサの検出温度に基づいて、前記処理手段3で処理される被処理物101の各処理点温度を推定し、推定された温度から平均温度および傾斜温度を算出し、各PID制御手段61〜6nは、それぞれ平均温度または各傾斜温度が目標値になるように操作信号を出力し、配分手段7によって、各PID制御手段61〜6nによる制御が、他のPID制御手段の制御に影響を与えないように、処理手段3に操作を加える各操作手段に各PID制御手段61〜6nからの操作信号を配分するようにしている。

請求項（抜粋）：

処理手段および該処理手段によって処理される被処理物を制御対象として制御する制御装置であって、前記処理手段の物理状態を検出する検出手段の検出出力に基づいて、前記被処理物の物理状態を推定する推定手段と、前記推定手段で推定された物理状態の情報に基づいて、前記処理手段に操作を加える操作手段に対して、操作信号を出力する状態制御手段と、を備えることを特徴とする制御装置。

IPC (5件)：

G05B 11/32 ,  G05D 23/19 ,  H01L 21/22 501 ,  H01L 21/22 511 ,  H01L 21/31

FI (6件)：

G05B 11/32 A ,  G05B 11/32 F ,  G05D 23/19 G ,  H01L 21/22 501 N ,  H01L 21/22 511 Q ,  H01L 21/31 B

Fターム (51件)：

5F045AA20 ,  5F045AB32 ,  5F045BB01 ,  5F045EC02 ,  5F045EK06 ,  5F045EK22 ,  5F045EK27 ,  5F045GB05 ,  5F045GB16 ,  5H004GA07 ,  5H004GA15 ,  5H004GB01 ,  5H004HA01 ,  5H004HB01 ,  5H004JA08 ,  5H004JA22 ,  5H004JB07 ,  5H004JB08 ,  5H004JB18 ,  5H004JB20 ,  5H004JB30 ,  5H004KA32 ,  5H004KA62 ,  5H004KA71 ,  5H004KB02 ,  5H004KB04 ,  5H004KB06 ,  5H004KB33 ,  5H004KC24 ,  5H004KC26 ,  5H004KC28 ,  5H004LA02 ,  5H004LA15 ,  5H004LA18 ,  5H323AA27 ,  5H323BB06 ,  5H323CA02 ,  5H323CB02 ,  5H323CB42 ,  5H323DA01 ,  5H323EE01 ,  5H323EE11 ,  5H323FF04 ,  5H323FF10 ,  5H323HH02 ,  5H323KK05 ,  5H323KK09 ,  5H323LL01 ,  5H323LL02 ,  5H323LL12 ,  5H323MM06

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 熱処理装置およびその温度制御方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-096951   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン東北株式会社
• 熱処理のモデル規範型予測制御
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平9-527765   出願人：エイエスエムアメリカインコーポレイテッド
• 熱処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-138794   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 制御システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-129936   出願人：テル・バリアン株式会社
• 特開昭58-031405