特許
J-GLOBAL ID：200903068973279970

ポジ型フォトレジスト組成物

発明者：
百田 淳

百田 淳 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  栗宇 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-241946
公開番号（公開出願番号）：特開2004-078105
出願日： 2002年08月22日
公開日（公表日）： 2004年03月11日
要約：
【課題】現像欠陥の発生を著しく低減したポジ型感光性組成物を提供する。【解決手段】(A)オキシムスルホネート化合物、(B)特定の構造単位を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び(C)フルオロ脂肪族含有高分子化合物とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
(A)下記一般式(1)で表されるオキシムスルホネート化合物、 (B)下記一般式(X)で表される構造単位を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び、 (C)一般式(2)で表されるモノマーに由来する繰り返し単位を含有するフルオロ脂肪族含有高分子化合物とを含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。
IPC (7件)：
G03F7/039 ,  C08F20/24 ,  C08F22/38 ,  C08F28/02 ,  C08F212/14 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027
FI (7件)：
G03F7/039 601 ,  C08F20/24 ,  C08F22/38 ,  C08F28/02 ,  C08F212/14 ,  G03F7/004 503A ,  H01L21/30 502R
Fターム (35件)：
2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025FA17 ,  4J100AB02R ,  4J100AB04R ,  4J100AB07P ,  4J100AB07Q ,  4J100AB07R ,  4J100AL08P ,  4J100AM21P ,  4J100AP01P ,  4J100BA02P ,  4J100BA02R ,  4J100BA03Q ,  4J100BA12P ,  4J100BA15P ,  4J100BA15R ,  4J100BA72P ,  4J100BB18P ,  4J100BC04P ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100JA38
引用特許：
審査官引用 (6件)
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