特許
J-GLOBAL ID：200903068978391302
荷電ビーム露光方法およびマスク
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
永井 冬紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-008443
公開番号（公開出願番号）：特開平10-209008
出願日： 1997年01月21日
公開日（公表日）： 1998年08月07日
要約：
【要約】【課題】 従来より高精度な露光を行うことができる荷電ビーム露光方法およびマスクの提供。【解決手段】 マスク1のパターン領域1aに歪み測定用マークが形成された小領域3を複数設け、それらのマークの位置を計測してマスク1の歪みを求め、その歪みに基づいてウエハ4に投影されるパターン像を補正して露光する。その結果、露光時のマスクに歪みが有っても高精度なパターン露光を行うことができる。小領域3をパターン領域1aの周辺部に配置したり、パターン領域1aの全体に小領域2と混在するように配置したりしてもよい。
請求項（抜粋）：
マスクに形成されたパターンを荷電ビームにより感応基板に投影露光する荷電ビーム露光方法において、前記マスクに設けられた複数の歪み計測用マークの位置をそれぞれ計測し、それらの計測値に基づいて前記感応基板に投影されるべきパターン像を補正して露光することを特徴とする荷電ビーム露光方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 1/16
, G03F 7/20 504
H01L 21/30 541 E
, G03F 1/16 B
, G03F 7/20 504
, H01L 21/30 541 R
