多孔性シリカ膜、それを有する積層体

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長谷川曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-185552
公開番号（公開出願番号）：特開2005-015310
出願日： 2003年06月27日
公開日（公表日）： 2005年01月20日
要約：

【課題】可視光域での波長依存性の少ない低反射性、積層工程の容易性、防汚性、機械強度に優れた多孔性シリカ膜、及びそれを用いた光学材料、半導体材料に好適な積層体を提供する。【解決手段】膜厚方向に対して空隙率の連続的な変化を有し、かつ十点表面粗さRz=100nm以下であることを特徴とする多孔性シリカ膜。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

膜厚方向に対して空隙率の連続的な変化を有し、かつ十点表面粗さRz=100nm以下であることを特徴とする多孔性シリカ膜。

IPC (4件)：

C01B33/12 , B32B5/18 , B32B9/00 , H01L21/312

FI (4件)：

C01B33/12 C , B32B5/18 , B32B9/00 A , H01L21/312 C

Fターム (43件)：

4F100AA20A , 4F100AA20B , 4F100AG00 , 4F100AK01 , 4F100AT00C , 4F100BA03 , 4F100BA10A , 4F100BA10C , 4F100DJ00A , 4F100GB41 , 4F100JA14B , 4F100JG10 , 4F100JK14A , 4F100JK15A , 4F100JN01C , 4F100JN30 , 4F100YY00A , 4F100YY00B , 4G072AA28 , 4G072BB09 , 4G072BB15 , 4G072HH30 , 4G072LL11 , 4G072MM31 , 4G072NN21 , 4G072QQ20 , 4G072RR05 , 4G072TT08 , 4G072TT30 , 4G072UU01 , 4G072UU30 , 5F058AA10 , 5F058AC03 , 5F058AD05 , 5F058AF04 , 5F058AG01 , 5F058AH03 , 5F058BA20 , 5F058BC05 , 5F058BD07 , 5F058BF46 , 5F058BH01 , 5F058BJ03

引用特許：

審査官引用 (8件)

気孔を有する反射防止膜とその製法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-088609 出願人：科学技術振興事業団
絶縁薄膜用の多孔性シリカ薄膜
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-374711 出願人：旭化成株式会社
多孔質分離膜及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-134872 出願人：京セラ株式会社

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