特許
J-GLOBAL ID：200903069266825680
合成石英ガラス製フォトマスク基板およびフォトマスク
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-065646
公開番号（公開出願番号）：特開2005-255423
出願日： 2004年03月09日
公開日（公表日）： 2005年09月22日
要約：
【課題】低複屈折であり、偏光照明を用いたり、液浸露光を行ったりすることに対応するフォトマスク基板を得る。【解決手段】露光波長が略200nm以下の光源を用いる半導体製造技術に用いられる合成石英ガラス製フォトマスク基板であって、その露光波長における複屈折が1nm/6.35mm以下であり、かつ照度が13.2mW/cm2のXeエキシマランプを20分間照射した際の、波長217nmにおけるXeエキシマランプ照射前後の光透過率の差でみる低下量が最大1.0%であることを特徴とする。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
露光波長が略200nm以下の光源を用いる半導体製造技術に用いられる合成石英ガラス製フォトマスク基板であって、その露光波長における複屈折が1nm/6.35mm以下であり、かつ照度が13.2mW/cm2のXeエキシマランプを20分間照射した際の、波長217nmにおけるXeエキシマランプ照射前後の光透過率の差でみる低下量が最大1.0%であることを特徴とする合成石英ガラス製フォトマスク基板。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (2件)：
引用特許：
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