特許
J-GLOBAL ID：200903069304163890

ビスフェノールAの製造方法

発明者：
高橋 堅太

高橋 堅太 について

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猪俣 将実

猪俣 将実 について

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中村 英昭

中村 英昭 について

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濱田 祐一

濱田 祐一 について


出願人/特許権者：
三井化学株式会社

三井化学株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-111436
公開番号（公開出願番号）：特開2000-302715
出願日： 1999年04月19日
公開日（公表日）： 2000年10月31日
要約：
【要約】【課題】スルホン酸基含有炭化水素基とメルカプト基含有炭化水素基を共に有する有機高分子シロキサンの存在下、アセトンとフェノールを反応させてビスフェノールAを製造する方法において、該触媒を成型せずに使用することにより初期活性が高く、かつ、活性を低下させることなく、低コストのビスフェノールAの製造方法を提供する。【解決手段】目開き2.0mmのJIS標準網ふるいで分級したときに、ふるい上重量パーセントが10パーセント以下である、スルホン酸基含有炭化水素基とメルカプト基含有炭化水素基を共に有する有機高分子シロキサン触媒を使用する。
請求項（抜粋）：
スルホン酸基含有炭化水素とメルカプト基含有炭化水素を共に有する有機高分子シロキサンの存在下、アセトンとフェノールとを反応させビスフェノールAを製造する方法において、目開き2.0mmのJIS標準網ふるいで分級したときに、ふるい上重量パーセントが10パーセント以下であるスルホン酸基含有炭化水素基とメルカプト基含有炭化水素基を共に有する有機高分子シロキサン触媒を使用することを特徴とするビスフェノールAの製造方法。
IPC (4件)：
C07C 37/20 ,  B01J 31/06 ,  C07C 39/16 ,  C07B 61/00 300
FI (4件)：
C07C 37/20 ,  B01J 31/06 X ,  C07C 39/16 ,  C07B 61/00 300
Fターム (12件)：
4H006AA02 ,  4H006AC25 ,  4H006AD10 ,  4H006BA53 ,  4H006FC52 ,  4H006FE13 ,  4H039CA19 ,  4H039CA41 ,  4H039CD10 ,  4H039CD40 ,  4H039CF30 ,  4H039CG10
引用特許：
審査官引用 (7件)
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