特許

J-GLOBAL ID：200903069568027278

液晶表示装置

発明者： 小林 和弘 ,  中村 伸宏 ,  井上 和式 ,  吉田 卓司 ,  中嶋 健 ,  升谷 雄一 ,  青木 宏憲
出願人/特許権者： 株式会社アドバンスト・ディスプレイ
代理人 (1件)： 朝日奈 宗太 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-072890
公開番号（公開出願番号）：特開2001-339072
出願日： 2001年03月14日
公開日（公表日）： 2001年12月07日
要約：

【要約】【課題】 アクティブマトリクス型液晶表示装置の生産性向上あるいはコスト低減を目的として、TFTアレイを製造するために必要とする写真製版の回数(マスク枚数)を低減する。【解決手段】 本発明の薄膜トランジスタアレイ基板は、絶縁性基板、該絶縁性基板上に形成された第1の金属パターン、該第1の金属パターン上の絶縁膜、該絶縁膜上の半導体パターン、該半導体パターン上の第2の金属パターンを具備し、該半導体パターンは該第2の金属パターンを内包することを特徴としている。

請求項（抜粋）：

絶縁性基板、該絶縁性基板上に形成された第1の金属パターン、該第1の金属パターン上の絶縁膜、該絶縁膜上の半導体パターン、該半導体パターン上の第2の金属パターンを具備し、該半導体パターンは該第2の金属パターンを内包することを特徴とする薄膜トランジスタアレイ基板。

IPC (5件)：

H01L 29/786 ,  H01L 21/336 ,  G02F 1/1368 ,  G03F 7/20 501 ,  G09F 9/30 338

FI (6件)：

G02F 1/1368 ,  G03F 7/20 501 ,  G09F 9/30 338 ,  H01L 29/78 627 C ,  H01L 29/78 616 T ,  H01L 29/78 617 M

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 電気光学素子の製法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-076297   出願人：株式会社アドバンスト・ディスプレイ
• 半導体装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-072827   出願人：株式会社東芝
• 液晶表示装置およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-285352   出願人：株式会社日立製作所
• 表示装置およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-317396   出願人：松下電器産業株式会社
• 液晶表示装置とその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-283194   出願人：田中栄