特許
J-GLOBAL ID：200903069980971045

保護膜形成組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者：
神田 博美

神田 博美 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-145491
公開番号（公開出願番号）：特開2007-316307
出願日： 2006年05月25日
公開日（公表日）： 2007年12月06日
要約：
【課題】レジスト膜上に、アルカリ現像液に可溶な保護膜を形成することができ、液浸露光によるパターン形成において、レジスト膜を液浸液から保護しつつ、液浸液により保護膜が膨潤することなく、現像工程において使用するアルカリ現像液で剥離でき、良好なパターンの形成を可能とし、さらには液浸液に対する追随性にも優れる保護膜を形成できる保護膜形成用組成物及び該組成物を用いた液浸露光パターン形成方法を提供する。【解決手段】レジスト膜上に設けられる保護膜を形成する保護膜形成組成物であって、アルカリ現像液の作用により分解し、アルカリ可溶性基を生じる基を含有する含フッ素原子樹脂、及び、前記レジスト膜を溶解しない溶媒を含有することを特徴とする保護膜形成組成物及び該組成物を用いて液浸露光パターンを形成する。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
レジスト膜上に設けられる保護膜を形成する保護膜形成組成物であって、 (A)アルカリ現像液の作用により分解し、アルカリ可溶性基を生じる基を含有する含フッ素原子樹脂、及び、 (S)前記レジスト膜を溶解しない溶媒 を含有することを特徴とする保護膜形成組成物。
IPC (2件)：
G03F 7/11 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G03F7/11 501 ,  H01L21/30 515D ,  H01L21/30 575
Fターム (16件)：
2H025AA00 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025CB41 ,  2H025DA02 ,  2H025DA03 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  5F046BA03 ,  5F046DA27 ,  5F046JA22
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (2件)

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