特許
J-GLOBAL ID：200903058514700366

液浸露光用保護膜形成組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者：
稲部 陽樹

稲部 陽樹 について

, 
漢那 慎一

漢那 慎一 について

, 
神田 博美

神田 博美 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-209569
公開番号（公開出願番号）：特開2006-030603
出願日： 2004年07月16日
公開日（公表日）： 2006年02月02日
要約：
【課題】 液浸露光における現像液で剥離でき、なおかつレジスト膜上における均一塗布性に優れ、経時保存後のパーティクル発生数が軽減され、更には下層のレジスト組成物の感度を向上させうる、新規な保護膜を形成しうる保護膜形成組成物を提供する。【解決手段】 (A)水不溶性かつアルカリ可溶性である樹脂、および(B)溶剤を含有し、且つ金属不純物の含有量が100ppb以下であることを特徴とする液浸露光用保護膜形成組成物、およびそれを用いたパターン形成方法。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
(A)水不溶性かつアルカリ可溶性である樹脂、および(B)溶剤を含有し、且つ金属不純物の含有量が100ppb以下であることを特徴とする液浸露光用保護膜形成組成物。
IPC (2件)：
G03F 7/11 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G03F7/11 501 ,  H01L21/30 575 ,  H01L21/30 515D ,  H01L21/30 514E
Fターム (7件)：
2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025DA02 ,  5F046AA28 ,  5F046NA19
引用特許：
出願人引用 (11件)
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審査官引用 (9件)
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