特許
J-GLOBAL ID：200903070019025261
ITOスパッタリングターゲット
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-105643
公開番号（公開出願番号）：特開2002-302762
出願日： 2001年04月04日
公開日（公表日）： 2002年10月18日
要約：
【要約】【課題】 ターゲットの積算使用時間の増加に伴ってエロージョン部に発生するノジュール起因のパーティクルおよび非エロージョン部に堆積する黄色粉末起因のパーティクルの発生量を低減したITOターゲットを提供する。【解決手段】 実質的にインジウム、スズおよび酸素からなるITOスパッタリングターゲットにおいて、非エロージョン部の厚さをエロージョン部の厚さよりも薄くしてエロージョン部を突出させると共に、エロージョン部を含む平面と非エロージョン部を含む平面とを鈍角な斜面で結んだ形状とし、エロージョン部の表面粗さ(Ra)を0.1μm以下、非エロージョン部およびエロージョン部と非エロージョン部とを結んだ斜面部のRaを1.0μm以上とする。
請求項（抜粋）：
実質的にインジウム、スズおよび酸素からなるITOスパッタリングターゲットにおいて、非エロージョン部の厚さをエロージョン部の厚さよりも薄くしてエロージョン部を突出させるとともに前記エロージョン部を含む平面と前記非エロージョン部を含む平面とを鈍角な斜面で結んだ形状とし、前記突出させたエロージョン部の表面粗さ(Ra)を0.1μm以下、非エロージョン部およびエロージョン部と非エロージョン部を結んだ斜面の表面粗さ(Ra)を1.0μm以上としたことを特徴とするITOスパッタリングターゲット。
FI (2件)：
C23C 14/34 B
, C23C 14/34 A
4K029BA50
, 4K029BC03
, 4K029BC09
, 4K029BD00
, 4K029CA05
, 4K029DC05
, 4K029DC12
, 4K029DC24
