特許
J-GLOBAL ID：200903070072635179
光導波路の形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-035539
公開番号（公開出願番号）：特開平9-211247
出願日： 1996年01月30日
公開日（公表日）： 1997年08月15日
要約：
【要約】【課題】光導波路の形成方法において、レジスト膜をマスクとして直接コア層をパターニングすることにより、加工工程を簡略化し、光導波路形成の歩留まり向上、加工精度の向上に寄与する。【解決手段】光導波路形成に必要な十分な解像性と耐エッチング性とを兼ね備えたレジスト膜をマスクとして、直接コア層をパターニングすることを特徴とする、光導波路の形成方法を提供する。
請求項（抜粋）：
基板上に形成されたコア層の表面に、感放射線性樹脂組成物からなるレジスト膜を形成し、該レジスト膜をパターニングしてマスクパターンを作製する工程と、パターニングされた該レジスト膜をマスクとしてコア層のパターニングを行う工程とを有する光導波路の形成方法であって、前記感放射線性樹脂組成物が、(A)(a)カルボキシル基を有するラジカル重合性化合物、(b)環状アルキル基を有し、カルボキシル基を有しないラジカル重合性化合物および(c)他のラジカル重合性化合物からなるアルカリ可溶性を有する共重合体、(B)少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物並びに(C)放射線ラジカル重合開始剤を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物である、光導波路の形成方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G02B 6/12 M
, G02B 6/12 N
