特許
J-GLOBAL ID:200903054179657110
レーザパターン修正方法並びに修正装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
京本 直樹 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-222556
公開番号(公開出願番号):特開2002-040627
出願日: 2000年07月24日
公開日(公表日): 2002年02月06日
要約:
【要約】【課題】Crなどの金属薄膜を除去加工することにより、スプラッシュ、ロールアップ、基板ダメージなどを最小限にできるレーザマスクリペアシステムの構築。【解決手段】10ps〜300psの範囲にあるパルス幅を有するQスイッチモードロックパルスレーザ1の出射光から、光シャッタ2で切り出したパルス列の一部のパルスを、光学遅延ユニット5によって時間軸で2段階以上に分けたマルチパルスを作り、これを用いてレーザマスクリペア装置を構成する。
請求項(抜粋):
Qスイッチモード同期パルスレーザ出力光を照射レーザ光とすることを特徴とするレーザパターン修正方法。
IPC (8件):
G03F 1/08
, B23K 26/00
, B23K 26/06
, G02F 1/11
, G02F 1/37
, H01L 21/027
, H01S 3/00
, H01S 3/117
FI (8件):
G03F 1/08 T
, B23K 26/00 C
, B23K 26/06 E
, G02F 1/11
, G02F 1/37
, H01S 3/00 B
, H01S 3/117
, H01L 21/30 502 W
Fターム (37件):
2H079AA04
, 2H079AA13
, 2H079BA01
, 2H079CA24
, 2H095BD32
, 2H095BD34
, 2K002AA04
, 2K002AB04
, 2K002AB07
, 2K002AB12
, 2K002BA12
, 2K002HA10
, 2K002HA20
, 2K002HA32
, 4E068AC01
, 4E068CA03
, 4E068CA04
, 4E068CD03
, 4E068CD05
, 4E068CK01
, 4E068DA10
, 4E068DB13
, 5F072AB15
, 5F072HH02
, 5F072JJ05
, 5F072KK06
, 5F072KK08
, 5F072KK12
, 5F072KK13
, 5F072KK15
, 5F072MM09
, 5F072PP01
, 5F072PP07
, 5F072QQ02
, 5F072RR05
, 5F072SS06
, 5F072YY09
引用特許:
審査官引用 (13件)
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フォトマスク修正装置およびフォトマスク修正方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-083408
出願人:日本電気株式会社
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フォトマスクの欠損欠陥修正方法および装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-300003
出願人:日本電気株式会社
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フォトマスクの修正方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-331631
出願人:科学技術振興事業団, 古宇田光, 近藤裕己
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レーザーシステム
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-262247
出願人:金門電気株式会社, 日新電機株式会社, 中井貞雄, 財団法人レーザー技術総合研究所
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パルスレーザ加工装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-025889
出願人:浜松ホトニクス株式会社
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特開昭64-081376
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特開昭57-001279
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特開平2-323223
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特開平2-146786
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特開平4-318990
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レーザ照射装置及び露光装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-275360
出願人:株式会社東芝
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特開昭61-056479
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固体レーザー発振システム
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-262249
出願人:金門電気株式会社, 日新電機株式会社, 中井貞雄, 財団法人レーザー技術総合研究所
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