特許
J-GLOBAL ID:200903054179657110

レーザパターン修正方法並びに修正装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 京本 直樹 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-222556
公開番号(公開出願番号):特開2002-040627
出願日: 2000年07月24日
公開日(公表日): 2002年02月06日
要約:
【要約】【課題】Crなどの金属薄膜を除去加工することにより、スプラッシュ、ロールアップ、基板ダメージなどを最小限にできるレーザマスクリペアシステムの構築。【解決手段】10ps〜300psの範囲にあるパルス幅を有するQスイッチモードロックパルスレーザ1の出射光から、光シャッタ2で切り出したパルス列の一部のパルスを、光学遅延ユニット5によって時間軸で2段階以上に分けたマルチパルスを作り、これを用いてレーザマスクリペア装置を構成する。
請求項(抜粋):
Qスイッチモード同期パルスレーザ出力光を照射レーザ光とすることを特徴とするレーザパターン修正方法。
IPC (8件):
G03F 1/08 ,  B23K 26/00 ,  B23K 26/06 ,  G02F 1/11 ,  G02F 1/37 ,  H01L 21/027 ,  H01S 3/00 ,  H01S 3/117
FI (8件):
G03F 1/08 T ,  B23K 26/00 C ,  B23K 26/06 E ,  G02F 1/11 ,  G02F 1/37 ,  H01S 3/00 B ,  H01S 3/117 ,  H01L 21/30 502 W
Fターム (37件):
2H079AA04 ,  2H079AA13 ,  2H079BA01 ,  2H079CA24 ,  2H095BD32 ,  2H095BD34 ,  2K002AA04 ,  2K002AB04 ,  2K002AB07 ,  2K002AB12 ,  2K002BA12 ,  2K002HA10 ,  2K002HA20 ,  2K002HA32 ,  4E068AC01 ,  4E068CA03 ,  4E068CA04 ,  4E068CD03 ,  4E068CD05 ,  4E068CK01 ,  4E068DA10 ,  4E068DB13 ,  5F072AB15 ,  5F072HH02 ,  5F072JJ05 ,  5F072KK06 ,  5F072KK08 ,  5F072KK12 ,  5F072KK13 ,  5F072KK15 ,  5F072MM09 ,  5F072PP01 ,  5F072PP07 ,  5F072QQ02 ,  5F072RR05 ,  5F072SS06 ,  5F072YY09
引用特許:
審査官引用 (13件)
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