ラクトン部分を有する環式オレフィン・ポリマを有するフォトレジスト組成

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：坂口博 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-130763
公開番号（公開出願番号）：特開2002-014472
出願日： 2001年04月27日
公開日（公表日）： 2002年01月18日
要約：

【要約】【課題】 193nmイメージング放射線を用いる高解像リソグラフィ性能を可能にするフォトレジスト組成、及びこのフォトレジスト組成を用いるリソグラフィ法を提供すること。【解決手段】酸性触媒作用ポジティブ・フォトレジスト組成が、ラクトン部分を有する環式オレフィン・モノマを有する環式オレフィン・ポリマを含むレジスト組成の使用により可能になる。フォトレジストは193nmの放射線によりイメージング可能で、現像されて、改善された現像特性及び改善された耐エッチング性を有するフォトレジスト構造を形成する。モノマは、ラクトン部分と環式オレフィン環との間に介在する酸素原子を有さない。好適なラクトン部分は、環式オレフィン環に直接結合されるスピロラクトン(5員環または6員環)である。

請求項（抜粋）：

a)環式オレフィン・ポリマと、b)感光性酸生成剤とを含むフォトレジスト組成物であって、前記環式オレフィン・ポリマが、i)水溶性アルカリ溶液内での溶解性を抑制する酸活性部分を有する、環式オレフィン単位と、ii)ラクトン部分と環式オレフィン環との間の介在部分に酸素原子が存在しない、前記ラクトン部分を有する環式オレフィン・モノマ単位とを含むフォトレジスト組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 501 , G03F 7/11 , G03F 7/40 521 , H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 501 , G03F 7/11 , G03F 7/40 521 , H01L 21/30 502 R

Fターム (23件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA04 , 2H025AA09 , 2H025AB17 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB08 , 2H025CB41 , 2H025CB43 , 2H025DA40 , 2H025FA17 , 2H025FA35 , 2H096AA27 , 2H096BA11 , 2H096EA03 , 2H096EA04 , 2H096GA08 , 2H096HA23

引用特許：

審査官引用 (7件)

レジスト用樹脂、化学増幅型レジスト、パターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-022919 出願人：沖電気工業株式会社
レジスト組成物及びレジストパターンの形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-312722 出願人：富士通株式会社
レジスト材料及びレジストパターンの形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-277570 出願人：富士通株式会社

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