特許
J-GLOBAL ID:200903070358554087

露光装置及び露光方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 井上 義雄 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-111806
公開番号(公開出願番号):特開平10-289868
出願日: 1997年04月15日
公開日(公表日): 1998年10月27日
要約:
【要約】【課題】露光装置にエラーが生じた場合における露光装置の作動環境に関するレポート作成の負担を減少させるとともに、エラーの生じた露光装置の早期復旧を達成する露光装置の制御装置及び制御方法を提供する。【解決手段】露光装置201にエラーが発生したときに、少なくともプログラムに関するデータとエラーに関するデータとを読み出し、かつ所定の形式で出力するので、露光装置のオペレータが、エラー原因解析にいかなる情報が必要か知らなくても、かかる情報の収集が容易となり、もってエラーの生じた露光装置201の早期復旧が確保されることとなる。さらには、収集された情報が所定の形式で出力されるため、出力を受け取ったサービスマン等が容易に情報を把握でき、もってエラーの早期解析が可能となる。
請求項(抜粋):
マスクのパターンを基板に露光する露光系と、前記露光系を所定のプログラムにより制御する制御装置とを備えた露光装置において、実行されたプログラムに関するデータと、前記露光動作時に発生したエラーに関するデータとを保持する保持手段と、前記エラーが発生したときに、少なくとも前記プログラムに関するデータと前記エラーに関するデータとを読み出す読み出し手段と、前記読み出し手段から読み出した前記データを所定の形式で出力する出力手段とを備えたことを特徴とする露光装置。
IPC (2件):
H01L 21/027 ,  H01L 21/66
FI (2件):
H01L 21/30 502 G ,  H01L 21/66 Z
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 半導体露光装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平3-203522   出願人:キヤノン株式会社
  • デバイス製造装置および方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平6-330949   出願人:キヤノン株式会社
  • 半導体露光装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平6-150622   出願人:キヤノン株式会社
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