特許
J-GLOBAL ID:200903070507324022

導電性パターンの製造方法およびこれによって製造された導電性パターン

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人池内・佐藤アンドパートナーズ
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-545499
公開番号(公開出願番号):特表2009-519607
出願日: 2006年12月15日
公開日(公表日): 2009年05月14日
要約:
【課題】【解決手段】本発明は、基材に導電性パターンを形成するパターン形成ステップと、前記導電性パターンの表面を酸化させる還元性金属イオンを含む水溶液に前記導電性パターンを浸漬させて、前記導電性パターンの表面を黒化させる黒化処理ステップとを含む導電性パターンの製造方法およびこれによって製造された導電性パターンを提供する。【選択図】図3
請求項(抜粋):
基材に導電性パターンを形成するパターン形成ステップと、 前記導電性パターンの表面を酸化させる還元性金属イオンを含む水溶液に前記導電性パターンを浸漬させて、前記導電性パターンの表面を黒化させる黒化処理ステップと、 を含むことを特徴とする導電性パターンの製造方法。
IPC (5件):
H05K 3/12 ,  G09F 9/00 ,  H05K 9/00 ,  H01B 5/14 ,  H01B 13/00
FI (5件):
H05K3/12 610D ,  G09F9/00 309Z ,  H05K9/00 V ,  H01B5/14 B ,  H01B13/00 503D
Fターム (26件):
5E321AA04 ,  5E321AA23 ,  5E321BB23 ,  5E321BB32 ,  5E321BB41 ,  5E321BB44 ,  5E321GG05 ,  5E321GH01 ,  5E343AA02 ,  5E343AA12 ,  5E343AA34 ,  5E343BB23 ,  5E343BB24 ,  5E343BB25 ,  5E343BB28 ,  5E343BB72 ,  5E343CC33 ,  5E343DD02 ,  5E343EE52 ,  5E343GG11 ,  5G323CA03 ,  5G435AA01 ,  5G435AA14 ,  5G435AA17 ,  5G435GG33 ,  5G435KK07
引用特許:
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (5件)
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