試料作製方法および試料作製装置ならびに試料観察装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-349830
公開番号（公開出願番号）：特開2005-114578
出願日： 2003年10月08日
公開日（公表日）： 2005年04月28日
要約：

【課題】透過電子顕微鏡や走査電子顕微鏡などにおける試料観察を短時間に行える試料作製方法および試料作製装置、ならびにその作製された試料を短時間に観察できる試料観察装置を提供する。【解決手段】図4(d)に示すように、切欠部6b’の左側に観察用マークM3、そして切欠部6b’の右側に観察用マークM4が集束イオンビームIBによって形成される。観察用マークM3は、そのマークM3から見て右方向に欠陥部分Aの断面A0(試料加工部)があることが分かるように、方向線m3”は欠陥部分断面A0の方を指している。一方、加工用マークM4は、そのマークM4から見て左方向(y方向)に欠陥部分Aの断面A0があることが分かるように、方向線m4”は欠陥部分断面A0の方を指している。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

試料の加工面にイオンビームを照射して試料加工を行うと共に、その試料加工部の周辺にマークを形成するようにした試料作製方法であって、前記マークから見てどの方向に前記試料加工部があるかが分かるように、前記マークを形成するようにしたことを特徴とする試料作製方法。

IPC (6件)：

G01N23/225 , G01N1/28 , G01N23/04 , H01J37/26 , H01J37/28 , H01J37/317

FI (8件)：

G01N23/225 , G01N23/04 , H01J37/26 , H01J37/28 , H01J37/317 D , G01N1/28 F , G01N1/28 G , G01N1/28 H

Fターム (28件)：

2G001AA03 , 2G001BA07 , 2G001BA11 , 2G001CA03 , 2G001GA01 , 2G001GA06 , 2G001HA13 , 2G001JA03 , 2G001JA12 , 2G001KA03 , 2G001PA11 , 2G001RA04 , 2G001RA20 , 2G052AA13 , 2G052AD32 , 2G052AD52 , 2G052EC18 , 2G052FD20 , 2G052GA34 , 2G052GA35 , 2G052HC04 , 2G052HC15 , 2G052HC32 , 2G052HC45 , 2G052JA07 , 5C033SS02 , 5C033UU03 , 5C034DD09

引用特許：

出願人引用 (1件)

試料評価・処理観察システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-154750 出願人：株式会社日立製作所

審査官引用 (7件)

試料作製方法および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-044126 出願人：株式会社日立製作所
試料評価・処理観察システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-154750 出願人：株式会社日立製作所
特開平3-037946

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