特許
J-GLOBAL ID:200903071083019620
光導波路形成用放射線硬化性ドライフィルム、およびそれを用いた光導波路ならびに光導波路の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-400880
公開番号(公開出願番号):特開2003-202437
出願日: 2001年12月28日
公開日(公表日): 2003年07月18日
要約:
【要約】【課題】 光導波路形成用放射線硬化性ドライフィルム、およびそれを用いて作製された光導波路ならびに光導波路の製造方法、より詳細には、目的とする導波路形状を精度よく作製でき、かつ製造プロセスが簡易で伝送特性に優れる光導波路ならびに光導波路の製造方法を得る。【解決手段】 (A)カルボキシル基を有するラジカル重合性化合物とそれ以外のラジカル重合性化合物から得られ、そのガラス転移温度が20°C以上150°C以下である共重合体(B)分子中に2個以上の重合性反応基を有する化合物および(C)放射線重合開始剤、を含有することを特徴とする光導波路形成用放射線硬化性ドライフィルム。
請求項(抜粋):
(A)カルボキシル基を有するラジカル重合性化合物とそれ以外のラジカル重合性化合物から得られ、そのガラス転移温度が20°C以上150°C以下である共重合体(B)分子中に2個以上の重合性反応基を有する化合物および(C)放射線重合開始剤、を含有することを特徴とする光導波路形成用放射線硬化性ドライフィルム。
IPC (2件):
FI (2件):
G02B 6/12 N
, G02B 6/12 M
Fターム (7件):
2H047PA01
, 2H047PA02
, 2H047PA22
, 2H047PA24
, 2H047PA28
, 2H047QA05
, 2H047TA43
引用特許: