基板端縁処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小谷悦司 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-318378
公開番号（公開出願番号）：特開平9-162099
出願日： 1995年12月06日
公開日（公表日）： 1997年06月20日
要約：

【要約】【課題】基板端縁に溶剤が残留することのないようにする。【解決手段】表面に薄膜が形成された基板Bの端縁の不要薄膜を除去する基板端縁処理装置5において、基板Bを保持する回転支持板32と、回転支持板32に保持された基板Bの表面側端縁に向けて溶剤を吐出口から吐出して不要な薄膜を溶解させる溶剤供給ノズル53aと、溶剤により溶解された溶解物を吸引する吸引管52と、回転支持板32に保持された基板Bに対して吸引管52を進退させる進退手段5と、基板Bの裏面側端縁に残留した溶剤を進退手段5の後退によって除去する液滴掻き寄せ手段9とを有している。

請求項（抜粋）：

表面に薄膜が形成された基板の端縁の不要薄膜を除去する基板端縁処理装置において、基板を水平に保持する基板保持手段と、基板保持手段に保持された基板の表面側端縁に上記不要薄膜を溶解する溶剤を供給する溶剤供給ノズルと、上記溶剤供給ノズルにより供給され基板の裏面側端縁に残留した溶剤の液滴を掻き寄せる液滴掻き寄せ手段と、上記液滴掻き寄せ手段により掻き寄せられた集合液滴を吸引して裏面側端縁から除去する吸引除去手段と、を有することを特徴とする基板端縁処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/16 502

FI (2件)：

H01L 21/30 577 , G03F 7/16 502

引用特許：

出願人引用 (5件)

基板端縁洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-112033 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
塗布方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-118092 出願人：東京エレクトロン株式会社
特開昭52-029832

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