特許
J-GLOBAL ID：200903071696825416

光干渉断層撮像装置

発明者：
廣瀬 太

廣瀬 太 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 長尾 達也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-234780
公開番号（公開出願番号）：特開2009-103688
出願日： 2008年09月12日
公開日（公表日）： 2009年05月14日
要約：
【課題】被検眼の眼底における網膜の断層像を撮像するに際し、モーションアーチファクトを低減させ、解像度の向上を図ることが可能となる光干渉断層撮像装置を提供する。【解決手段】光干渉断層撮像装置であって、 参照光路が、少なくとも、第1の参照光路と、該第1の参照光路より光路長が短い第2の参照光路とを有し、 前記第1の参照光路を用いて、光干渉により取得される被検査物の第1の検査位置における第1の断層情報と、前記第2の参照光路を用いて前記光干渉により取得される前記第1の検査位置よりも前記被検査物の深さ方向に関して浅い位置の第2の検査位置における第2の断層情報とを取得し、 前記第1の断層情報から形成される前記第1の検査位置における断層画像の位置ずれを、前記第2の断層情報を用いて補正可能に構成されていることを特徴とする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
光源からの光を測定光と参照光とに分割し、該測定光を測定光路を介して被検査物に照射し、且つ該測定光の前記被検査物からの戻り光を検出位置に導き、 前記参照光を参照光路を介して前記検出位置に導いて、前記検出位置に導かれた前記戻り光と光干渉させて、該光干渉に基づく信号を用いて前記被検査物の断層画像を撮像する光干渉断層撮像装置であって、 前記参照光路が、少なくとも、第1の参照光路と、該第1の参照光路より光路長が短い第2の参照光路とを有し、 前記第1の参照光路を用いて前記光干渉により取得される前記被検査物の第1の検査位置における第1の断層情報と、 前記第2の参照光路を用いて前記光干渉により取得される前記第1の検査位置よりも前記被検査物の深さ方向に関して浅い位置である第2の検査位置における第2の断層情報と、を取得し、 前記第1の断層情報から形成される前記第1の検査位置における断層画像の位置ずれを、前記第2の断層情報を用いて補正可能に構成されていることを特徴とする光干渉断層撮像装置。
IPC (4件)：
G01N 21/17 ,  A61B 10/00 ,  G01B 9/02 ,  G01B 11/24
FI (4件)：
G01N21/17 630 ,  A61B10/00 E ,  G01B9/02 ,  G01B11/24 D
Fターム (57件)：
2F064AA09 ,  2F064CC04 ,  2F064EE04 ,  2F064FF03 ,  2F064FF08 ,  2F064GG03 ,  2F064GG12 ,  2F064GG13 ,  2F064GG22 ,  2F064GG24 ,  2F064GG44 ,  2F064GG52 ,  2F064GG55 ,  2F064GG70 ,  2F064HH01 ,  2F064HH06 ,  2F064JJ05 ,  2F065AA52 ,  2F065AA53 ,  2F065CC16 ,  2F065DD03 ,  2F065FF52 ,  2F065GG07 ,  2F065GG25 ,  2F065JJ01 ,  2F065JJ05 ,  2F065LL02 ,  2F065LL04 ,  2F065LL12 ,  2F065LL13 ,  2F065LL57 ,  2F065LL62 ,  2F065MM16 ,  2F065MM26 ,  2F065MM28 ,  2F065NN06 ,  2F065QQ33 ,  2F065UU07 ,  2G059AA06 ,  2G059BB12 ,  2G059EE02 ,  2G059EE09 ,  2G059EE11 ,  2G059FF02 ,  2G059FF09 ,  2G059GG09 ,  2G059GG10 ,  2G059HH01 ,  2G059HH06 ,  2G059JJ15 ,  2G059JJ17 ,  2G059JJ18 ,  2G059JJ22 ,  2G059KK01 ,  2G059LL01 ,  2G059MM01 ,  2G059NN01
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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