特許
J-GLOBAL ID:200903071765195764
排水の処理方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
村瀬 一美
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-172242
公開番号(公開出願番号):特開2006-055835
出願日: 2005年06月13日
公開日(公表日): 2006年03月02日
要約:
【課題】 ホウ素とフッ素の吸着量を増加させる。【解決手段】 ホウ素とフッ素の少なくともいずれか一方を被吸着物質とし、被吸着物質を含む排水を遷移金属を主成分とする多孔質体に接触させて被吸着物質を吸着し除去するもので、ヘキサゴナル構造の多孔質から成るジルコニウムの使用が好ましい。【選択図】 図5
請求項(抜粋):
ホウ素とフッ素の少なくともいずれか一方を被吸着物質とし、前記被吸着物質を含む排水を遷移金属を主成分とする多孔質体に接触させて前記被吸着物質を吸着し除去することを特徴とする排水の処理方法。
IPC (6件):
C02F 1/28
, B01J 20/06
, B01J 20/30
, B01J 20/34
, C01G 25/00
, C01G 25/06
FI (7件):
C02F1/28 E
, C02F1/28 L
, B01J20/06 C
, B01J20/30
, B01J20/34 G
, C01G25/00
, C01G25/06
Fターム (40件):
4D024AA04
, 4D024AB11
, 4D024AB14
, 4D024AB16
, 4D024BA14
, 4D024BB01
, 4D024BB05
, 4D024DA07
, 4D024DB20
, 4G048AA07
, 4G048AB02
, 4G048AB06
, 4G048AC08
, 4G048AD03
, 4G048AE05
, 4G048AE07
, 4G066AA19B
, 4G066AA23B
, 4G066AA24B
, 4G066AA26B
, 4G066AA27B
, 4G066AA47A
, 4G066AA47B
, 4G066AA53A
, 4G066AB09D
, 4G066AB21D
, 4G066BA31
, 4G066BA32
, 4G066CA21
, 4G066CA31
, 4G066DA08
, 4G066EA13
, 4G066FA03
, 4G066FA14
, 4G066FA21
, 4G066FA22
, 4G066FA33
, 4G066FA34
, 4G066GA11
, 4G066GA31
引用特許: