特許
J-GLOBAL ID：200903071798495577
露光装置及び露光方法、デバイス製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 青山 正和
, 西 和哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-296379
公開番号（公開出願番号）：特開2005-268747
出願日： 2004年10月08日
公開日（公表日）： 2005年09月29日
要約：
【課題】 液浸露光においてアライメント処理を精確に行うことができる露光装置を提供する。【解決手段】 露光装置EXは、基板Pを保持して移動可能な基板ステージPSTと、基板ステージPSTに保持された基板P上のアライメントマーク1を検出するとともに基板ステージPSTに設けられた基準マークPFMを検出する基板アライメント系5と、基板ステージPSTに設けられた基準マークMFMを投影光学系PLを介して検出するマスクアライメント系6とを備え、基板アライメント系5を用いて基板ステージPSTに設けられた基準マークPFMを液体無しに検出するとともに、マスクアライメント系6を用いて基板ステージPSTに設けられた基準マークMFMを投影光学系PLと液体とを介して検出して、基板アライメント系5の検出基準位置とパターンの像の投影位置との位置関係を求める。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
投影光学系と液体とを介して基板上にパターンの像を投影することによって、前記基板を露光する露光装置において、
前記基板を保持して移動可能な基板ステージと、
前記基板ステージに保持された前記基板上のアライメントマークを検出するとともに前記基板ステージに設けられた基準を検出する第1検出系と、
前記基板ステージに設けられた基準を前記投影光学系を介して検出する第2検出系とを備え、
前記第1検出系を用いて前記基板ステージに設けられた基準を、液体を介さずに検出するとともに、前記第2検出系を用いて前記基板ステージに設けられた基準を前記投影光学系と液体とを介して検出して、前記第1検出系の検出基準位置と前記パターンの像の投影位置との位置関係を求めることを特徴とする露光装置。
IPC (3件)：
H01L21/027
, G03F7/20
, G03F9/00
H01L21/30 515D
, G03F7/20 501
, G03F9/00 A
, H01L21/30 525R
2H097EA01
, 2H097KA20
, 2H097LA10
, 2H097LA12
, 5F046BA03
, 5F046CB01
, 5F046CB25
, 5F046DB05
, 5F046FB06
, 5F046FB19
, 5F046FC03
, 5F046FC05
, 5F046FC10
出願人引用 (1件)
審査官引用 (5件)
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