特許

J-GLOBAL ID：200903071832317578

連続蒸着装置、蒸着装置及び蒸着方法

発明者： 城戸 淳二 ,  水上 時雄
出願人/特許権者： 城戸 淳二 ,  株式会社アイメス
代理人 (1件)： 三浦 邦夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-153367
公開番号（公開出願番号）：特開2002-348659
出願日： 2001年05月23日
公開日（公表日）： 2002年12月04日
要約：

【要約】【目的】 被蒸着基板に対して時間効率よくかつ材料の無駄を少なくして蒸着材料を順次成膜することができる装置を得る。さらに、異種材料を特定の割合で材料の無駄なく共蒸着できる装置を得る。【構成】 被蒸着基板をその下面の蒸着エリアを開放した状態でその平面方向に搬送する搬送手段;この搬送手段による被蒸着基板の搬送空間を含んで該基板の搬送方向に区画形成された複数の蒸着室;これらの各蒸着室内に、被蒸着基板の搬送平面の下方に配置した、被蒸着基板の搬送方向と直交する方向の蒸着エリアをカバーする蒸着幅を有する蒸着材料収納容器;及び各蒸着材料収納容器にそれぞれ付設した加熱手段;を有する連続蒸着装置。少なくとも一つの蒸着室内に、互いに平行に、かつ各蒸着材料収納容器から気化または昇華する蒸着物が同一の蒸着エリアに共蒸着される位置関係で複数の蒸着材料収納容器を配置することで共蒸着装置が得られる。

請求項（抜粋）：

蒸着材料を真空中において加熱することにより気化又は昇華させて被蒸着基板に付着させる蒸着装置であって、被蒸着基板をその下面の蒸着エリアを開放した状態でその平面方向に搬送する搬送手段;この搬送手段による被蒸着基板の搬送空間を含んで該基板の搬送方向に区画形成された複数の蒸着室;これらの各蒸着室内に、被蒸着基板の搬送平面の下方に配置した、被蒸着基板の搬送方向と直交する方向の蒸着エリアをカバーする蒸着幅を有する蒸着材料収納容器;及び各蒸着材料収納容器にそれぞれ付設した加熱手段;を有することを特徴とする連続蒸着装置。

IPC (3件)：

C23C 14/24 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14

FI (4件)：

C23C 14/24 C ,  C23C 14/24 J ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14 A

Fターム (17件)：

3K007AA03 ,  3K007AA07 ,  3K007AB03 ,  3K007AB18 ,  3K007CA01 ,  3K007EB00 ,  3K007FA01 ,  3K007FA03 ,  4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BA62 ,  4K029BB02 ,  4K029BC07 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029DB12 ,  4K029DB14

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-054679   出願人：出光興産株式会社
• 連続真空蒸着装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-082274   出願人：石川島播磨重工業株式会社
• 有機化合物用の容器、及び有機薄膜製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-191950   出願人：日本真空技術株式会社
• 連続真空蒸着装置及び蒸着方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-006375   出願人：石川島播磨重工業株式会社