特許

J-GLOBAL ID：200903071938013098

インプリントリソグラフィ

発明者： ウイスター,サンダー,フレデリック ,  ディクスマン,ヨハン,フレデリック ,  クルイト-ステージマン,イボンヌ,ウェンデラ ,  シュラム,アイヴァー ,  ランメルス,イェルーン,ヘルマン ,  チロエダーズ,リチャード,ヨセフ,マリヌス
出願人/特許権者： エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
代理人 (3件)： 稲葉 良幸 ,  大賀 眞司 ,  大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-211243
公開番号（公開出願番号）：特開2009-081421
出願日： 2008年08月20日
公開日（公表日）： 2009年04月16日
要約：

【課題】 基板を保持するチャック装置が開示される。【解決手段】 チャック装置は、その上に基板が保持される第一表面部分、および第一表面部分に隣接するとともに、第一表面部分の縁部の周りの少なくとも部分的に延在し、使用時に、第一表面部分の上方に、よって、第一表面部分上に保持される基板の上方にガスを偏向する第二表面部分を含む。【選択図】図3a

請求項（抜粋）：

基板を保持するチャック装置であって、 前記基板がその上に保持される第一表面部分、および 前記第一表面部分に隣接するとともに、前記第一表面部分の縁部の周りに少なくとも部分的に延在し、使用時に、前記第一表面部分の上方に、よって前記第一表面部分上に保持される前記基板の上方にガスを偏向する第二表面部分を含む、チャック装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  B29C 59/02

FI (2件)：

H01L21/30 502D ,  B29C59/02 Z

Fターム (16件)：

4F209AA44 ,  4F209AD08 ,  4F209AF01 ,  4F209AG01 ,  4F209AG03 ,  4F209AG05 ,  4F209AM21 ,  4F209AM23 ,  4F209AM25 ,  4F209AM26 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PN06 ,  4F209PN09 ,  4F209PQ11 ,  5F046AA28

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-349778   出願人：キヤノン株式会社
• 樹脂の剥離方法及びパターン転写装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-291851   出願人：株式会社ニコン
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-106679   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• インプリント・リソグラフィ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-161794   出願人：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.