特許
J-GLOBAL ID：200903071958626991
紫外線照射により表面微構造を制御した金属酸化物薄膜の製造方法及びその金属酸化物薄膜
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
須藤 政彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-327650
公開番号（公開出願番号）：特開2008-138269
出願日： 2006年12月04日
公開日（公表日）： 2008年06月19日
要約：
【課題】フォトクロミックな金属酸化物前駆体溶液を用いた新規な金属酸化物薄膜の製造方法とその表面微構造を紫外線照射により制御する方法を提供する。【解決手段】フォトクロミズムを示す金属酸化物前駆体溶液を原料として用い、薄膜作製プロセスに紫外線照射の過程を加えることで、焼成後の金属酸化物薄膜の表面微構造を簡便に制御する方法、該方法による表面微構造を制御した金属酸化物薄膜の製造方法、及びその表面微構造を制御した金属酸化物薄膜。【効果】光化学反応を積極的に取り入れて調製したフォトクロミックな金属酸化物前駆体溶液を用いて、薄膜作製プロセス中において紫外線照射の効果を利用した、新規な金属酸化物薄膜の表面微構造制御技術を提供することができる。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
フォトクロミックな基板に金属酸化物薄膜を作製する過程でその表面微構造を制御する方法であって、該金属酸化物前駆体溶液を用いて、ディップコーティング、乾燥、仮焼、そして急速加熱処理して製膜することを特徴とする、金属酸化物薄膜の表面微構造制御方法。
IPC (3件)：
C23C 20/06
, C01B 13/14
, C01G 25/02
C23C20/06
, C01B13/14 Z
, C01G25/02
4G042DA01
, 4G042DB15
, 4G042DD02
, 4G042DE14
, 4G048AA02
, 4G048AB02
, 4G048AD02
, 4G048AE08
, 4K022AA02
, 4K022AA43
, 4K022BA02
, 4K022BA20
, 4K022BA21
, 4K022BA22
, 4K022BA26
, 4K022BA27
, 4K022BA28
, 4K022BA33
, 4K022CA12
, 4K022DA06
, 4K022DB01
, 4K022DB04
, 4K022DB07
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (7件)
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