ポリシラン系ブロックコポリマーの製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：三枝英二 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-037740
公開番号（公開出願番号）：特開平8-295739
出願日： 1996年02月26日
公開日（公表日）： 1996年11月12日
要約：

【要約】【目的】薄膜としての成膜性、機械的強度、耐磨耗性などに優れているポリシラン系ブロックコポリマーを、光照射装置などの特殊な装置を使用することなく、ポリシランを製造する反応器中で簡便に、操作性よく、安価に製造し得る新たなポリシラン系ブロックコポリマーの製造方法を提供することを主な目的とする。【構成】電極反応により直鎖状ポリシラン、シリコンネットワークポリマー或いは網目状シランポリマーを形成させた後、反応系にビニル基含有化合物を導入して、ポリシラン系ブロックコポリマーを製造する。

請求項（抜粋）：

ポリシラン系ブロックコポリマーの製造方法であって、一般式【化1】(式中mは、1〜3である:Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、シリル基またはアミノ基を表す。m=1の場合には2つのRが、m=2の場合には4つのRが、m=3の場合は6つのRが、それぞれ同一でもあるいは2つ以上が相異なっていてもよい:Xは、ハロゲン原子を表す。)で示されるジハロシランをMgまたはMg系合金を陽極とし、Li塩を支持電解質とし、溶媒として非プロトン性溶媒を使用する電極反応に供することにより、直鎖状ポリシランを形成させた後、該直鎖状ポリシランを含む反応系に一般式【化2】(式中R1およびR2は、同一または相異なって、それぞれ水素原子、飽和或いは不飽和アルキル基、アリール基、エステル基、シリル基、エーテル基、アミノ基、カルボキシル基、ニトロ基、シアノ基またはハロゲン原子を表す。)で示されるビニル基含有化合物を添加することにより、一般式【化3】(式中Rは、上記に同じ。nは、1〜10000である。)で示される構造単位と一般式【化4】(式中R1およびR2は、上記に同じ。lは、1〜10000である。)で示される構造単位とからなるポリシラン系ブロックコポリマーを製造する方法。

引用特許：

出願人引用 (14件)

特開平3-104893
特開平2-105825
特開平2-133416

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審査官引用 (12件)

特開平3-104893
特開平3-104893
特開平2-105825

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