特許
J-GLOBAL ID：200903071996181642

マスクブランクス及びその製造方法

発明者：
栗川 明典

栗川 明典 について


出願人/特許権者：
HOYA株式会社

HOYA株式会社 について


代理人 (1件)： 藤村 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-269656
公開番号（公開出願番号）：特開2007-079353
出願日： 2005年09月16日
公開日（公表日）： 2007年03月29日
要約：
【課題】図13に示すような「レーザ光照射による凹部の形成によって該凹部の表面に発生する表面荒れ」に伴う諸問題を解消する。【解決手段】マスクブランクス用ガラス基板表面における転写に影響のない領域の表面にレーザ光を照射させて、融解又は昇華させることにより、前記マスクブランクス用ガラス基板を識別するためのマーカとして用いられる凹部を形成してなり、更に、このレーザ光照射によって形成された凹部の表面を、「レーザ光照射による凹部の形成によって該凹部の表面に発生する表面荒れ」の剥離を防止する機能を有する膜で覆ってなるマーカとして用いられる凹部と、 前記マスクブランクス用ガラス基板上に形成された、マスクパターンとなるマスクパターン用薄膜と、を備えることを特徴とする。【選択図】図13
請求項（抜粋）：
マスクブランクス用ガラス基板表面における転写に影響のない領域の表面にレーザ光を照射させて、融解又は昇華させることにより、前記マスクブランクス用ガラス基板を識別するためのマーカとして用いられる凹部を形成してなり、更に、このレーザ光照射によって形成された凹部の表面を、レーザ光照射による凹部の形成によって該凹部の表面に発生する表面荒れによる剥離を防止する機能を有する膜で覆ってなるマーカとして用いられる凹部と、 前記マスクブランクス用ガラス基板上に形成された、マスクパターンとなるマスクパターン用薄膜と、 を備えることを特徴とするマスクブランクス。
IPC (2件)：
G03F 1/08 ,  H01L 21/027
FI (2件)：
G03F1/08 M ,  H01L21/30 502P
Fターム (4件)：
2H095BB34 ,  2H095BC26 ,  2H095BE09 ,  2H095BE10
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (5件)
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