特許
J-GLOBAL ID：200903072016875496
像投影方法、および該方法を用いたコンタクトホールの露光方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長尾 達也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-119827
公開番号（公開出願番号）：特開2000-310843
出願日： 1999年04月27日
公開日（公表日）： 2000年11月07日
要約：
【要約】【課題】大きさが限定された2次元周期的コンタクトホール列のようなパターンに対して、有効光源を最適化することができ、コントラストと深度とを共に向上させることが可能な像投影方法、および該方法を用いたコンタクトホールの露光方法を提供すること。【解決手段】ピッチが2k1(λ/NA)の縦方向と横方向に二次元周期的な配列を有する微細な格子状パターンを照射し、該微細な格子状パターンで生じる回折光を投影光学系の瞳に入射させて微細な格子状パターン像を投影する像投影方法であって、前記ピッチが0.5≦2k1≦1.0とされた微細な格子状パターンを、瞳の円と重ねたときに一部が該円からはみ出る矩形の環と該瞳の円とを重ねた際の交わる領域に対応する有効光源を瞳に形成する光で照射するようにした像投影方法、および該方法を用いたコンタクトホールの露光方法を提供する。
請求項（抜粋）：
ピッチが2k1(λ/NA)の縦方向と横方向に周期的な配列を有する微細な格子状パターンを照射し、該微細な格子状パターンで生じる回折光を投影光学系の瞳に入射させて微細な格子状パターン像を投影する像投影方法であって、前記ピッチが0.5≦2k1≦1.0とされた微細な格子状パターンを、瞳の円と重ねたときに一部が該円からはみ出る矩形の環と該瞳の円とを重ねた際の交わる領域に対応する有効光源を瞳に形成する光で照射することを特徴とする像投影方法。ここで、λは格子状パターンに照射する光の波長、NAは投影光学系の格子状パターン側(入射側)の開口数である。また、縦と横のピッチは同じでも異なっていてもよい。また、前記矩形の縦と横の辺がそれぞれ前記縦方向、横方向に延びるものである。
Fターム (3件)：
2H095BB02
, 2H095BB13
, 2H095BB31
