特許
J-GLOBAL ID：200903072065653270
プラズマ生成電極、プラズマ処理装置、および、プラズマ処理方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
深見 久郎
, 森田 俊雄
, 仲村 義平
, 堀井 豊
, 野田 久登
, 酒井 將行
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-233335
公開番号（公開出願番号）：特開2007-048661
出願日： 2005年08月11日
公開日（公表日）： 2007年02月22日
要約：
【課題】 大きな処理速度でプラズマの局所的不均一を発生させることなく均一な処理を可能とする、プラズマ生成電極、プラズマ処理装置、および、プラズマ処理方法を提供する。【解決手段】 プラズマ生成電極装置の誘電体14に設けられる窪み140Aは、プラズマ放電の開始および維持電圧を小さくするための予備放電空間部P1と、プラズマ拡大空間部P2と、プラズマ拡大空間部P2により生成されたプラズマの幅拡大を制限するプラズマ幅拡大制限空間部P3とを備えている。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
一対の電極の主たる対向面間には誘電体が配置され、該対向面間の端部近傍領域において、前記誘電体の窪みによって規定される空間部においてプラズマを生成するプラズマ生成電極であって、
前記空間部を規定する前記誘電体の窪みは、
一対の前記電極の主たる対向面間に位置し、プラズマ放電の開始および維持電圧を小さくするための予備放電空間部を規定する第1対向壁面部と、
前記第1対向壁面部に連続して設けられ、対向間隔が第1対向壁面部の対向間隔よりも広く設けられたプラズマ拡大空間部を規定する第2対向壁面部と、によって構成されるプラズマ生成電極。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H05H1/24
, H01L21/302 101E
5F004AA01
, 5F004BA20
, 5F004BB13
, 5F004BB24
, 5F004BB29
, 5F004CA02
, 5F004CA03
, 5F004CA05
, 5F004DA01
, 5F004DA22
, 5F004DA26
, 5F004DB01
, 5F004DB30
出願人引用 (3件)
審査官引用 (5件)
全件表示
前のページに戻る
