ウエット処理装置およびウエット処理方法

発明者： ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：志賀正武 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-338525
公開番号（公開出願番号）：特開2003-142453
出願日： 2001年11月02日
公開日（公表日）： 2003年05月16日
要約：

【要約】【課題】ウエット処理液の相互汚染を防止することが可能で、装置を小型化でき、ウエット処理工程に多大な設備費や占有スペースを費やすこともなく、製造ライン等に用いて合理的に複数のウエット処理を施すことができるウエット処理装置の提供。また、ウエット処理液の使用量の省液化が可能なウエット処理装置の提供。【解決手段】被処理基板21に向けてウエット処理液を供給する一対のノズル構成体41、41(71、71)が1以上設けられた複数のウエット処理領域が備えられた処理室1a内に基板21を搬送してウエット処理を順次行うウエット処理装置であって、処理室1a内には、処理室1a内に搬送された1枚の基板21を部分的に上向きに凹状とした状態でウエット処理する凹状ウエット処理領域11と、上記基板21を部分的に水平状態としながらウエット処理する水平ウエット処理領域12が設けられたウエット処理装置1。

請求項（抜粋）：

帯状の被処理物のウエット処理のための処理液を帯状の被処理物に向けて供給するウエット処理手段が1以上設けられた複数のウエット処理領域が備えられた処理室内に帯状の被処理物を搬送してウエット処理を順次行うウエット処理装置であって、前記処理室内には、該処理室内に搬送された1枚の帯状の被処理物を部分的に上向きに凹状とした状態でウエット処理する凹状ウエット処理領域が一カ所以上設けられたことを特徴とするウエット処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/306 , B08B 3/02 , G02F 1/13 101 , H01L 21/304 642 , H01L 21/304 651

FI (5件)：

B08B 3/02 C , G02F 1/13 101 , H01L 21/304 642 D , H01L 21/304 651 G , H01L 21/306 J

Fターム (23件)：

2H088FA17 , 2H088FA18 , 2H088FA21 , 2H088FA23 , 2H088FA24 , 2H088FA30 , 2H088HA01 , 2H088HA02 , 2H088HA04 , 2H088MA20 , 3B201AA01 , 3B201AB14 , 3B201AB47 , 3B201BB22 , 3B201BB92 , 3B201CB11 , 3B201CC12 , 3B201CD22 , 5F043AA31 , 5F043BB22 , 5F043DD23 , 5F043EE05 , 5F043EE27

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開昭53-058464
ウエット処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-148161 出願人：大見忠弘, 株式会社フロンテック
超音波洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-325209 出願人：株式会社カイジョー

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