特許
J-GLOBAL ID：200903072378872665
位相シフト露光マスク及びその製造方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高月 亨
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-213612
公開番号（公開出願番号）：特開平9-061987
出願日： 1995年08月22日
公開日（公表日）： 1997年03月07日
要約：
【要約】【構成】 ハーフトーン型位相シフトマスクについて、ハレーション及びこれによるレジストの膜減りなどを防止し、良好なパターン形状を得ることができる露光マスク及びその製造方法を提供する。【解決手段】 光透過部1’と、該光透過部1’に隣接する半透過部2’とを備え、該光透過部1’と半透過部2’とは互いに位相を異ならしめて露光光を透過させる位相シフト露光マスクにおいて、上記半透過部2’の外領域(露光に寄与しない外領域)を遮光部13とする。
請求項（抜粋）：
光透過部と、該光透過部に隣接し該光透過部より露光光の透過率が低い半透過部とを備え、該光透過部と半透過部とは互いに位相を異ならしめて露光光を透過させる位相シフト露光マスクにおいて、上記半透過部の露光に寄与しない外領域を遮光部としたことを特徴とする位相シフト露光マスク。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
出願人引用 (7件)
全件表示
審査官引用 (9件)
全件表示
前のページに戻る
