特許
J-GLOBAL ID:200903072492180480

複合構造物形成システム及び形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 日向寺 雅彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-022049
公開番号(公開出願番号):特開2006-206976
出願日: 2005年01月28日
公開日(公表日): 2006年08月10日
要約:
【課題】 エアロゾルを停止することなく原料の補充が可能な複合構造物形成システム及び形成方法を提供することを目的とする。【解決手段】 微粒子をガス中に分散させたエアロゾルを基材に衝突させて前記微粒子の構成材料からなる構造物と前記基材との複合構造物を形成する複合構造物形成システムであって、前記微粒子を収容する収容機構と、前記微粒子をガス中に分散させてエアロゾルを形成するエアロゾル化機構と、前記収容機構から前記エアロゾル化機構に前記微粒子を供給する供給機構と、前記収容機構と前記エアロゾル化機構との間のガスの流れを遮断する圧力遮断機構と、前記エアロゾル化機構に前記ガスを供給するガス供給機構と、前記エアロゾルを前記基材に向けて噴射する吐出口と、を備えたことを特徴とする複合構造物形成システムを提供する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
微粒子をガス中に分散させたエアロゾルを基材に衝突させて前記微粒子の構成材料からなる構造物と前記基材との複合構造物を形成する複合構造物形成システムであって、 前記微粒子を収容する収容機構と、 前記微粒子をガス中に分散させてエアロゾルを形成するエアロゾル化機構と、 前記収容機構から前記エアロゾル化機構に前記微粒子を供給する供給機構と、 前記収容機構と前記エアロゾル化機構との間のガスの流れを遮断する圧力遮断機構と、 前記エアロゾル化機構に前記ガスを供給するガス供給機構と、 前記エアロゾルを前記基材に向けて噴射する吐出口と、 を備えたことを特徴とする複合構造物形成システム。
IPC (3件):
C23C 24/04 ,  B05B 7/14 ,  B05D 1/02
FI (3件):
C23C24/04 ,  B05B7/14 ,  B05D1/02 Z
Fターム (30件):
4D075AA02 ,  4D075AA31 ,  4D075AA81 ,  4D075AA83 ,  4D075CA47 ,  4D075DA06 ,  4D075DB01 ,  4D075DB13 ,  4D075DB14 ,  4D075DB31 ,  4D075EA02 ,  4D075EB05 ,  4F033QA01 ,  4F033QB02Y ,  4F033QB05 ,  4F033QB12Y ,  4F033QB13Y ,  4F033QB19 ,  4F033QD05 ,  4F033QD14 ,  4F033QE01 ,  4F033QE09 ,  4F033QH01 ,  4F033QH07 ,  4K044BA01 ,  4K044BA11 ,  4K044BA21 ,  4K044BB11 ,  4K044CA23 ,  4K044CA71
引用特許:
出願人引用 (2件)
  • 特許第3348154号公報
  • 超微粒子成膜法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平11-210765   出願人:工業技術院長
審査官引用 (6件)
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