特許
J-GLOBAL ID：200903072613118302
ガラス基材のレーザ加工方法
出願人/特許権者：
日本板硝子株式会社
日本板硝子株式会社 について
代理人 (1件)： 小山 有 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-176124
公開番号（公開出願番号）：特開平11-216580
出願日： 1996年07月05日
公開日（公表日）： 1999年08月10日
要約：
【要約】【課題】 断面が滑らかな曲線状の多数の凹部をレーザ光で効率良く形成する。【解決手段】 投影レンズ1の入射側の焦点位置にマスク2を配置し、投影レンズ1の出射側の焦点位置にガラス基板3を配置している。そして、レーザ光を照射すると、マスク2のフーリエ変換像2aがガラス基板3の表面に結像される。ここで、フーリエ変換像2aのレーザ光強度の空間分布はsin波状をなし、このレーザ光強度の空間分布に対応してガラス基板3の表面には断面形状が曲線状(円弧状)をなす凹部が形成される。
請求項（抜粋）：
レンズの入射側の焦点位置にマスクを配置し、レンズの出射側の焦点位置にガラス基板を配置し、前記マスクにレーザ光を照射してレンズの出射側の焦点位置となるガラス基材表面にマスクのフーリエ変換像を結像せしめ、このフーリエ変換像の光エネルギーをガラス基材に吸収させ、このエネルギーによる溶融、蒸発若しくはアブレーションによってガラスを除去することで、ガラス基材表面に周期的に拡散する複数の凹部を形成するようにしたことを特徴とするガラス基材のレーザ加工方法。
IPC (3件)：
FI (3件)：
引用特許：
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