特許
J-GLOBAL ID:200903072745815525

光学活性エステルの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 岸本 瑛之助 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-314860
公開番号(公開出願番号):特開2001-128694
出願日: 1999年11月05日
公開日(公表日): 2001年05月15日
要約:
【要約】【課題】 高い光学純度の光学活性エステルを高収率で簡便に得る方法を提供する。【解決手段】 一般式[I]で表わされる、R体およびS体を含む2-ヒドロキシ脂肪酸エステルを、同エステルのR体およびS体のいずれか一方の光学異性体を立体選択的にエステル化し得る酵素の存在下に、有機溶媒中でエステル化剤と作用させて上記一方の光学異性体のヒドロキシ基を立体選択的にエステル化し、一般式[II]で表わされる光学活性エステルを生成させると共に、一般式[III]で表わされる他方の光学活性アルコールを残存させる。式中、Arはアリール基、R1 およびR2 は、互いに同一もしくは異なるエステル残基、nは1から3の整数を意味する。【化1】
請求項(抜粋):
一般式[I]【化1】で表わされる、R体およびS体を含む2-ヒドロキシ脂肪酸エステルを、同エステルのR体およびS体のいずれか一方の光学異性体を立体選択的にエステル化し得る酵素の存在下に、有機溶媒中でエステル化剤と作用させて上記一方の光学異性体のヒドロキシ基を立体選択的にエステル化し、一般式[II]【化2】で表わされる光学活性エステルを生成させると共に、一般式[III ]【化3】で表わされる他方の光学活性アルコールを残存させることを特徴とする光学活性エステルの製造方法。(上記各式中、Arはアリール基、R1 およびR2 は、互いに同一もしくは異なるエステル残基、nは1から3の整数を意味する。)
IPC (5件):
C12P 7/62 ,  C07C 67/60 ,  C07C 69/732 ,  C12P 41/00 ,  C07M 7:00
FI (5件):
C12P 7/62 ,  C07C 67/60 ,  C07C 69/732 Z ,  C12P 41/00 F ,  C07M 7:00
Fターム (12件):
4B064AD31 ,  4B064AD75 ,  4B064CA21 ,  4B064CB26 ,  4B064CC03 ,  4B064CD05 ,  4B064CD27 ,  4B064DA01 ,  4B064DA11 ,  4H006AA02 ,  4H006BN10 ,  4H006BT12
引用特許:
審査官引用 (5件)
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引用文献:
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