特許
J-GLOBAL ID：200903072813623117

微細粒子量の低減されたフォトレジスト組成物の製法

発明者：
日置 毅

日置 毅 について

, 
前田 成実

前田 成実 について

, 
花元 幸夫

花元 幸夫 について


出願人/特許権者：
住友化学工業株式会社

住友化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 久保山 隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-288257
公開番号（公開出願番号）：特開2002-099098
出願日： 2000年09月22日
公開日（公表日）： 2002年04月05日
要約：
【要約】【課題】 フィルターの目詰まりを抑制し、濾過時間を短縮し得る微細粒子の低減されたフォトレジスト組成物を製造する方法を提供する。【解決手段】 フォトレジスト組成物をポリエチレン製の膜及びポリテトラフルオロエチレン製の膜からなる複合膜で構成されているフィルターに通過させることを特徴とする微細粒子量の低減されたフォトレジスト組成物の製法。
請求項（抜粋）：
フォトレジスト組成物をポリエチレン製の膜及びポリテトラフルオロエチレン製の膜からなる複合膜で構成されているフィルターに通過させることを特徴とする微細粒子量の低減されたフォトレジスト組成物の製法。
IPC (6件)：
G03F 7/38 501 ,  B01D 61/58 ,  B01D 69/12 ,  B01D 71/26 ,  B01D 71/36 ,  H01L 21/027
FI (6件)：
G03F 7/38 501 ,  B01D 61/58 ,  B01D 69/12 ,  B01D 71/26 ,  B01D 71/36 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (16件)：
2H096AA25 ,  2H096CA14 ,  2H096CA20 ,  4D006GA02 ,  4D006KA12 ,  4D006KA41 ,  4D006KA52 ,  4D006KA55 ,  4D006KA57 ,  4D006MA08 ,  4D006MA22 ,  4D006MC22 ,  4D006MC30 ,  4D006PA02 ,  4D006PB70 ,  4D006PC80
引用特許：
審査官引用 (7件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM