金属酸化物膜の製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：山下昭彦 , 岸本達人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-326636
公開番号（公開出願番号）：特開2006-161156
出願日： 2005年11月10日
公開日（公表日）： 2006年06月22日
要約：

【課題】基材表面を触媒化処理することなく、基材表面上に直接金属酸化物膜を形成する金属酸化物膜の製造方法であって、基材が構造部を有する場合においても、簡便なプロセスで均一な金属酸化物膜を得ることが可能な金属酸化物膜の製造方法を提供することを主目的とするものである。【解決手段】本発明は、基材表面に、金属源として金属塩または金属錯体が溶解した金属酸化物膜形成用溶液を接触させることにより金属酸化物膜を得る金属酸化物膜の製造方法であって、上記金属酸化物膜形成用溶液が還元剤を含有することを特徴とする金属酸化物膜の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基材表面に、金属源として金属塩または金属錯体が溶解した金属酸化物膜形成用溶液を接触させることにより金属酸化物膜を得る金属酸化物膜の製造方法であって、前記金属酸化物膜形成用溶液が還元剤を含有することを特徴とする金属酸化物膜の製造方法。

IPC (14件)：

C23C 18/12 , C01B 13/14 , C01B 13/32 , C01G 19/00 , C01G 25/02 , C01G 23/00 , C01G 19/02 , C01F 5/02 , C01B 33/12 , C01G 21/08 , C01G 23/047 , C01F 11/02 , C01G 15/00 , C01F 17/00

FI (15件)：

C23C18/12 , C01B13/14 Z , C01B13/32 , C01G19/00 A , C01G25/02 , C01G23/00 , C01G19/02 C , C01F5/02 , C01B33/12 C , C01G21/08 , C01G23/047 , C01F11/02 Z , C01G15/00 B , C01F17/00 A , C01F17/00 B

Fターム (84件)：

4G042DA01 , 4G042DA02 , 4G042DB08 , 4G042DB15 , 4G042DB22 , 4G042DB31 , 4G042DC01 , 4G042DC03 , 4G042DD02 , 4G042DE04 , 4G042DE06 , 4G042DE07 , 4G042DE09 , 4G042DE14 , 4G047AA02 , 4G047AB02 , 4G047AB04 , 4G047AC03 , 4G047AD02 , 4G047CA02 , 4G047CB05 , 4G047CB06 , 4G047CB08 , 4G047CC03 , 4G047CD02 , 4G048AA02 , 4G048AA03 , 4G048AB02 , 4G048AB05 , 4G048AD02 , 4G048AE05 , 4G048AE06 , 4G048AE07 , 4G048AE08 , 4G072AA25 , 4G072BB09 , 4G072FF09 , 4G072GG03 , 4G072HH33 , 4G072JJ03 , 4G072JJ34 , 4G072KK15 , 4G072MM01 , 4G072NN21 , 4G072RR03 , 4G072RR12 , 4G076AA02 , 4G076AA18 , 4G076AB07 , 4G076AB12 , 4G076BA28 , 4G076BA42 , 4G076BB01 , 4G076BB08 , 4G076BD02 , 4G076CA10 , 4K022AA02 , 4K022AA12 , 4K022AA13 , 4K022AA37 , 4K022BA01 , 4K022BA02 , 4K022BA06 , 4K022BA08 , 4K022BA09 , 4K022BA10 , 4K022BA11 , 4K022BA14 , 4K022BA17 , 4K022BA20 , 4K022BA21 , 4K022BA22 , 4K022BA23 , 4K022BA25 , 4K022BA26 , 4K022BA27 , 4K022BA28 , 4K022BA33 , 4K022DA01 , 4K022DB01 , 4K022DB03 , 4K022DB04 , 4K022DB13 , 4K022DB30

引用特許：

出願人引用 (10件)

特許第3353070号
透明酸化亜鉛皮膜及びその作製方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-188292 出願人：松下電器産業株式会社, 上村工業株式会社, 大阪市
触媒核が付与された基体、基体への触媒化処理方法及び無電解めっき方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-149651 出願人：大阪市, 松下電器産業株式会社, 上村工業株式会社

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審査官引用 (7件)

配線の形成方法及び配線基板
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-047941 出願人：富士通株式会社
成膜方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-153985 出願人：セイコーエプソン株式会社
希土類酸化物膜形成用組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-070277 出願人：大阪市, 奥野製薬工業株式会社

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