特許
J-GLOBAL ID:200903072988717866

ガラス光学素子の製造方法及びガラス光学素子

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-085342
公開番号(公開出願番号):特開2008-239441
出願日: 2007年03月28日
公開日(公表日): 2008年10月09日
要約:
【課題】プレス成形法によるガラス光学素子の調製において、プレス成形後に冷却して得られた成形体内部に残留する応力を除去するためのアニール時間の短縮が可能な方法を提供する。【解決手段】所定形状に予備成形したガラス素材を加熱により軟化し、成形型を用いてプレス成形した後に成形体を冷却することを含むガラス光学素子の製造方法。冷却後の成形体を再加熱する工程、および次いで、所定の速度で降温することにより成形体の内部応力を緩和する工程を有し、かつ、該応力緩和工程においては、成形体に放射波長2〜5μm の範囲の赤外線を放射する。または、冷却開始後の成形体を所定の速度で降温することにより成形体の内部応力を緩和する工程を有し、かつ、該応力緩和工程においては、成形体に放射波長2〜5μmの範囲の赤外線を放射する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
所定形状に予備成形したガラス素材を加熱により軟化し、成形型を用いてプレス成形した後に成形体を冷却することを含むガラス光学素子の製造方法において、前記冷却後の成形体を再加熱する工程、および次いで、所定の速度で降温することにより成形体の内部応力を緩和する工程を有し、かつ、該応力緩和工程においては、成形体に放射波長2〜5μm の範囲の赤外線を放射することを特徴とする、前記製造方法。
IPC (3件):
C03B 11/00 ,  C03B 25/04 ,  G02B 1/00
FI (3件):
C03B11/00 A ,  C03B25/04 ,  G02B1/00
Fターム (1件):
4G015CA01
引用特許:
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (6件)
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