特許
J-GLOBAL ID：200903016398175068
ポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
小栗 昌平
, 本多 弘徳
, 市川 利光
, 高松 猛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-179335
公開番号（公開出願番号）：特開2006-350212
出願日： 2005年06月20日
公開日（公表日）： 2006年12月28日
要約：
【課題】IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用されるポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法に於いて、パターン形状、PEB温度依存性、露光ラチチュードが改善されたポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により特定構造の有機酸を発生する化合物及び(B)酸の作用により分解しアルカリ可溶性基を生じる酸分解性基として、ビシクロ[2.2.1]ヘプタン骨格にエステル結合を有する基が結合した基を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解度が増大する樹脂を含有するポジ型感光性組成物及び当該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)活性光線又は放射線の照射により下記一般式(I)で表される有機酸を発生する化合物及び
(B)酸の作用により分解しアルカリ可溶性基を生じる酸分解性基として、ビシクロ[2.2.1]ヘプタン骨格にエステル結合を有する基が結合した基を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解度が増大する樹脂
を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/004
, G03F 7/039
, H01L 21/027
G03F7/004 503A
, G03F7/039 601
, H01L21/30 502R
2H025AA03
, 2H025AB16
, 2H025AB17
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE07
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB14
, 2H025CB41
, 2H025CB45
, 2H025FA17
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (10件)
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