特許
J-GLOBAL ID:200903073175326408
酸化物焼結体、酸化物透明導電膜、およびこれらの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
鴨田 哲彰
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-175794
公開番号(公開出願番号):特開2006-347807
出願日: 2005年06月15日
公開日(公表日): 2006年12月28日
要約:
【課題】電子ビーム蒸着法、イオンプレーティング法、高密度プラズマアシスト蒸着法などの真空蒸着法で酸化物透明導電膜を製造する際に、大量の電子ビームを投入しても、割れやクラックが発生することのない酸化物焼結体を提供する。【解決手段】タングステンを固溶したインジウム酸化物を含有し、タングステンがインジウムに対する原子数比で0.001以上0.034以下含まれ、密度が4.0g/cm3以上6.5g/cm3以下である酸化物焼結体とする。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
タングステンを固溶したインジウム酸化物を含有し、タングステンがインジウムに対する原子数比で0.001以上0.034以下含まれ、密度が4.0g/cm3以上6.5g/cm3以下であることを特徴とする酸化物焼結体。
IPC (4件):
C04B 35/00
, C23C 14/24
, G02F 1/134
, H01L 31/04
FI (4件):
C04B35/00 J
, C23C14/24 E
, G02F1/1343
, H01L31/04 H
Fターム (36件):
2H092HA03
, 2H092HA04
, 2H092MA04
, 2H092MA05
, 2H092MA06
, 2H092NA29
, 3K007AB17
, 3K007AB18
, 3K007BA06
, 3K007CB01
, 3K007DB03
, 3K007FA01
, 4G030AA24
, 4G030AA32
, 4G030AA34
, 4G030BA02
, 4G030BA15
, 4G030BA16
, 4G030CA07
, 4G030CA08
, 4G030GA27
, 4G030GA29
, 4K029AA09
, 4K029AA24
, 4K029BA45
, 4K029BA50
, 4K029BC09
, 4K029CA02
, 4K029DB05
, 4K029DB08
, 4K029DB21
, 4K029GA01
, 5F051BA14
, 5F051CB14
, 5F051CB27
, 5F051FA04
引用特許:
引用文献:
審査官引用 (1件)
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透明導電膜の技術, 20000425, 第1版第2刷
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