特許
J-GLOBAL ID：200903073277416738

マイクロ波プラズマトーチ及びマイクロ波プラズマ溶射装置

発明者：
安井 利明

安井 利明 について


出願人/特許権者：
国立大学法人豊橋技術科学大学

国立大学法人豊橋技術科学大学 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-180539
公開番号（公開出願番号）：特開2007-002273
出願日： 2005年06月21日
公開日（公表日）： 2007年01月11日
要約：
【課題】固体の溶射原料粉末を供給し、それをマイクロ波プラズマにより加熱溶融し、加速し、皮膜を形成する方法を提供する。【解決手段】空洞共振器内に細いアンテナを設置することにより、その先端部に高電界を生成し、絶縁破壊により、プラズマの生成を容易にする。これによって、通常絶縁破壊が難しい窒素などの2原子分子ガスでも用意にプラズマの生成が可能である。更に高融点の中空電極をアンテナとして用いることにより、1000°C以上の高温プラズマの生成を可能にした上で、プラズマの中心軸上に粉体を供給しその溶射を可能にする。プラズマの温度は、アンテナの周囲に冷却ガスを流すことによる熱ピンチ作用で更に高温なプラズマを安定に生成することが可能である。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
プラズマ形成ガスと溶射粒子を空洞共振器の中心に据えられた中空アンテナを通じてその先端に供給し、空洞共振器に投入したマイクロ波でアンテナ先端に強電場を生成させることによりプラズマを発生させ、その熱でもって溶射粒子を溶融し、下流に置かれた基材に吹き付けることにより溶射膜を形成する製造方法。
IPC (2件)：
C23C 4/12 ,  H05H 1/30
FI (2件)：
C23C4/12 ,  H05H1/30
Fターム (3件)：
4K031DA04 ,  4K031EA01 ,  4K031EA07
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (4件)
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