特許
J-GLOBAL ID：200903073439924600
プラズマ処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
宮田 金雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-266050
公開番号（公開出願番号）：特開平11-106960
出願日： 1997年09月30日
公開日（公表日）： 1999年04月20日
要約：
【要約】【課題】 大面積にわたって均一なプラズマを形成し、大口径の被処理物をさらに均一に処理できるようにする。また、均一処理と同時にゴミの発生を低減することができるようにする。さらに、処理速度および処理形状の制御ができようにする。【解決手段】 本発明のプラズマ処理装置は、真空容器内においてガスを用いて励起源によりプラズマが生成されるプラズマ室2と、上記真空容器内へ駆動装置9によりパルス的に上記ガスを供給するパルスガスバルブ8と、パルスガスバルブ8から供給されるガスをプラズマ室2に導入できる複数の孔を有するシャワーヘッドと、上記真空容器内において試料7が配置される処理室1と、処理室1とプラズマ室2との間に設けられ、プラズマ室2から処理室1に連通する孔4を有する隔壁板3と、処理室1を排気する図示しない真空排気手段とを備える構成とする。
請求項（抜粋）：
真空容器内においてガスを用いて励起源によりプラズマが生成されるプラズマ室と、上記真空容器内へパルス的に上記ガスを供給するガス供給手段と、上記真空容器内において、該供給手段から供給される上記ガスを上記プラズマ室に導入できる複数の孔を有するシャワーヘッドと、上記真空容器内において被処理物が配置される処理室と、上記真空容器内において、上記処理室と上記プラズマ室との間に設けられ、上記プラズマ室から上記処理室に連通する孔を有する隔壁板と、上記処理室を排気する真空排気手段とを備えるプラズマ処理装置。
IPC (4件)：
C23F 4/00
, C23C 16/50
, H01L 21/3065
, H01L 21/31
C23F 4/00 A
, C23C 16/50
, H01L 21/31 C
, H01L 21/302 B
