特許

J-GLOBAL ID：200903073602847520

光学特性計測方法、投影光学系の調整方法及び露光方法、並びに露光装置の製造方法

発明者： 有澤 善雄 ,  貝瀬 浩二
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 立石 篤司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-134892
公開番号（公開出願番号）：特開2003-045795
出願日： 2002年05月10日
公開日（公表日）： 2003年02月14日
要約：

【要約】【課題】 投影光学系の光学特性を高精度に計測する。【解決手段】 投影光学系PLの像面近傍に配置された基板Wの平坦度を測定する。次に、この平坦度を考慮して、基板Wの投影光学系PLの光軸AX方向に関する位置及び傾斜の少なくとも一方を調整し、レチクルRT上の各パターン67i,jを照明光で照明し、各パターン67i,jを開口70i,j及び投影光学系PLを介して基板上に転写する。この場合、基板の位置、姿勢の調整は、上記の基板の平坦度を考慮して、照明光が照射される基板上の領域が極力像面に一致するように行われる。従って、各パターンの転写位置の基準位置からの位置ずれ量は、基板表面のデフォーカスに起因する位置ずれ成分を殆ど含まない、投影光学系の光学特性をほぼそのまま反映した位置ずれ量となる。従って、上記の位置ずれ量に基づいて投影光学系の光学特性を高精度に求めることができる。

請求項（抜粋）：

第1面上のパターンを第2面上に投影する投影光学系の光学特性を計測する光学特性計測方法であって、前記第2面上に配置された基板の平坦度を測定する第1工程と;前記測定された前記平坦度を考慮して、前記基板の前記投影光学系の光軸方向に関する位置及び前記光軸に直交する面に対する傾斜の少なくとも一方を調整した状態で、前記第1面上に配置された計測用パターンを照明光で照明し、前記計測用パターンを前記投影光学系を介して前記基板上に転写する第2工程と;前記計測用パターンの転写位置の基準位置からの位置ずれに基づいて前記投影光学系の光学特性を求める第3工程と;を含む光学特性計測方法。

IPC (6件)：

H01L 21/027 ,  G01B 11/00 ,  G01B 11/30 101 ,  G01M 11/02 ,  G03F 7/22 ,  G03F 9/00

FI (6件)：

G01B 11/00 C ,  G01B 11/30 101 A ,  G01M 11/02 B ,  G03F 7/22 H ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 516 A

Fターム (30件)：

2F065AA02 ,  2F065AA03 ,  2F065AA04 ,  2F065AA20 ,  2F065BB02 ,  2F065BB27 ,  2F065CC00 ,  2F065EE00 ,  2F065FF10 ,  2F065FF41 ,  2F065FF51 ,  2F065HH12 ,  2F065JJ01 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ08 ,  2F065NN20 ,  2F065PP12 ,  2F065PP13 ,  2F065QQ17 ,  2F065QQ18 ,  2F065QQ23 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ41 ,  2G086HH06 ,  5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CB17 ,  5F046CB25 ,  5F046DA13 ,  5F046DB05

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 投影光学系の結像特性評価方法及び該方法を使用する投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-067883   出願人：株式会社ニコン
• 走査型縮小投影露光装置及びディストーション測定方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-249957   出願人：日本電気株式会社
• 投影露光装置及び投影光学系の光学特性測定方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-065056   出願人：株式会社ニコン
• 投影露光装置及び結像特性測定方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-303409   出願人：株式会社ニコン