3次元計測のための投光装置及び撮像装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：久保幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-299924
公開番号（公開出願番号）：特開平9-145321
出願日： 1995年11月17日
公開日（公表日）： 1997年06月06日
要約：

【要約】【課題】スリット幅の調整が可能であり、歪みの少ないスリット光を射出することができ、しかも小型である投光装置を実現することを目的とする。【解決手段】レーザビームを射出する光源41と、レーザビームのビーム径を調整するためのバリエータ光学系422と、バリエータ光学系422から射出したレーザビームを一方向に拡げてスリット光を生成するエキスパンダ光学系423と、スリット光を偏向する光学走査手段43とによって投光装置40を構成する。

請求項（抜粋）：

レーザビームを射出する光源と、前記レーザビームのビーム径を調整するためのバリエータ光学系と、前記バリエータ光学系から射出したレーザビームを一方向に拡げてスリット光を生成するエキスパンダ光学系と、前記スリット光を偏向する光学走査手段とを有したことを特徴とする3次元計測のための投光装置。

IPC (5件)：

G01B 11/00 , G01B 11/24 , G01C 3/06 , G01N 21/84 , G06T 7/00

FI (5件)：

G01B 11/00 H , G01B 11/24 K , G01C 3/06 A , G01N 21/84 E , G06F 15/62 415

引用特許：

審査官引用 (4件)

3次元形状測定装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-320245 出願人：ミノルタ株式会社
光学的測定装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-242833 出願人：豊田工機株式会社
検出幅可変マーク検出方式
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-172163 出願人：日立電子エンジニアリング株式会社

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